Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293593136 à vendre en France
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ID: 293593136
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
PVD System, 12"
Process: Copper
Factory interface
PRI AC Box
SEC AC Box
(3) RF Generator racks
DI Water cooler
(2) Cryo compressors
Process chamber (1 / 4): Encore II Tan
Process chamber (2 / 3): Encore II Cu
Process chamber (C / D): RPC
Process chamber (E / F): Degas
(2) Electric distribution boxes
N2 Gun
ALCATEL ADS1202H Loadlock pump
ALCATEL ADS1202H Xfer pump
ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber C)
ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber D)
EDWARDS iH1000 Pump (Chamber E)
EDWARDS iH1000 Pump (Chamber F)
Missing parts:
Qty / Part number / Description
(2) / 0242-81627 / NSO Kits, XP Robots with enhanced high temp wrists and shipping case
(4) / 0010-29842 / Robot wrists CIP V2.3
(4) / 0200-06355 / Blades, ceramic open pocket conductive (ACB Blades)
(1) / 0190-25290 / LM Darp edge grip end effector KI (FI Robot blade)
(4) / 0190-41393 / NSK Drivers, 2-axis servo, 110 VAC F47
(1) / 0090-01629 / Assembly, transfer interlock with pos 5, 300mm
(1) / 0090-00353 / MF Buffer interlock PCB
(1) / 0190-24115 / PCB, CDN391R, D-I/O, 300 mm Endura
(2) / 0190-32372 / PCB, CDN396R, A-I/O, 300 mm Endura
(1) / 0190-05682 / PVD Dual chamber degas 208 V heater driver (Degas heat driver)
(1) / 0190-26701 / 0190-43081 / PVD 208 V Dual swill lamp degas driver (Degas lamp driver)
(1) / 0190-54040 / 0190-64793 / On-Board IS Controller (IS2000V Compatible) remote / Pump right mount (IS Controller)
(2) / 0190-54044 / 0190-64799 / Cryo compressors, 208 VAC Mit-ready 300 mm Endura II
(6) / - / Process chambers
(2) / - / RF Generator racks
(1) / - / Xfer Pump
(1) / - / Load lock pump
(4) / - / Chamber pumps (C,D,E,F)
(1) / - / DI Water cooler
(2) / - / Cryo compressors
(1) / - / FI Robot
(1) / - / FI Robot driver
(1) / - / XP Robot driver
(3) / 0190-41014 / LP PCBs
(2) / - / LP EV Modules
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur CVD thermique avancé conçu spécifiquement pour la croissance d'une large gamme de matériaux avancés. Le réacteur est capable de réaliser des procédés tels que Epi, MOCVD, CVD en alliage métallique, et plus encore. Mis en œuvre avec des fonctionnalités telles que des régulateurs de débit massique automatisés et des modules de processus thermique, ce réacteur permet un contrôle avancé des paramètres de croissance. Cette puissante chambre CVD thermique est faite d'acier inoxydable et d'autres matériaux résistant à la corrosion pour une meilleure durabilité et une utilisation à long terme. Le réacteur est équipé d'un bateau à quartz de 25cm de diamètre qui permet aux utilisateurs de maximiser la surface de croissance. Une hauteur de chambre de 14 « combinée à un décalage de 8 » font de ce réacteur un choix optimal pour les procédés de dépôt avancés. Le réacteur AKT Endura II comprend également un ensemble complet de commandes automatisées, y compris un contrôleur de processus contrôlé par PC, un générateur 2D/3D avancé et d'autres composants connexes. Cette fonction permet d'assurer un contrôle précis et précis du processus de croissance chimique. La chambre comprend également un ventilateur à vide intégré, qui est conçu pour améliorer la flexibilité du processus. Le réacteur AMAT Endura II a une vitesse de charge allant jusqu'à 10W/cm2 en utilisant des techniques de contrôle avancées telles que le contrôle de la température en boucle fermée et le contrôle de la pression. Le réacteur est capable de fonctionner avec des gaz inertes et réactifs. En outre, Endura II est conçu pour fonctionner avec des systèmes de filtration personnalisés qui aident à éliminer les contaminants indésirables et les particules. Cet outil CVD avancé offre également un flux de gaz élevé, une grande uniformité et un débit élevé, permettant aux utilisateurs de répondre aux exigences les plus exigeantes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II a un design fermé avec une faible empreinte, lui permettant de s'adapter facilement dans un environnement de production. Au total, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur de pointe avec les capacités de pointe nécessaires pour les procédés de dépôt avancés.
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