Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293628318 à vendre en France

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ID: 293628318
Taille de la plaquette: 12"
PVD System, 12" Process: Liner / Barrier Hard Disk Drive (HDD) not included.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura II est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Ce système est utilisé pour créer des films minces et des revêtements de divers matériaux qui peuvent être appliqués sur des surfaces pour la protection et d'autres utilisations. Le réacteur AMAT Endura II est constitué d'une chambre chargée d'un substrat, d'une unité de distribution de gaz de procédé, d'une source de chaleur et d'une alimentation électrique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura II est équipé d'une machine CVD à simple tranche de silicium polycristallin et d'oxyde qui peut être configurée pour le traitement par lots jusqu'à six ou quatre plaquettes de 8 pouces à la fois. Le réacteur Endura II offre une meilleure uniformité des dépôts et un excellent contrôle des procédés. Cette unité comporte un porte-substrat chauffé qui permet un positionnement uniforme du substrat dans la chambre de réaction. Ceci assure l'homogénéité des couches en cours de création et contribue également à réduire la contamination sur le substrat. La chambre de réaction offre également un excellent contrôle de la température, permettant une épaisseur de film précise et répétable et une uniformité. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura II est capable de fournir un haut degré d'uniformité, même sur des substrats de grande surface. Ceci est dû aux multiples paramètres de contrôle de processus disponibles, qui permettent des performances optimisées et répétables. De plus, le réacteur AMAT Endura II est doté d'une fonction brevetée de refroidissement post-dépôt à grande vitesse, ce qui contribue à réduire considérablement les contraintes résiduelles dans le film, entraînant des propriétés de film supérieures. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura II offre également une excellente uniformité d'épaisseur de film à travers la plaquette et fournit un paramètre de réglage fin après traitement, ce qui permet d'assurer une formation homogène de la couche et des rendements de processus optimaux. Le réacteur Endura II est capable de traiter une large gamme de gaz, y compris les silanes et l'oxygène, et peut être exécuté à des températures allant jusqu'à 1100 degrés Celsius. Cet outil est également disponible avec diverses options, comme un Programmable Logic Controller (PLC) et interlock options, pour aider les utilisateurs à obtenir les meilleurs résultats possibles. Le réacteur Endura II AMAT/APPLIED MATERIALS est un excellent choix pour ceux qui recherchent un actif CVD fiable et performant.
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