Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293763514 à vendre en France

ID: 293763514
Taille de la plaquette: 12"
PVD system, 12" Deposition equipment GEN 2 Controller (3) Load ports Does not included Hard Disk Drive (HDD) Power supply: 208 V AC, 3-Phase + 480 V AC (Normal).
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un équipement avancé de traitement des plaquettes semi-conductrices utilisé pour créer des puces intégrées (IC) et d'autres composants électriques complexes. Ce système utilise une gamme de matériaux et de techniques avancés pour traiter les plaquettes de silicium, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD), la gravure et le dépôt de photorésist. AKT Endura II dispose d'un certain nombre de modules de processus qui peuvent être reconfigurés, en fonction des besoins individuels des clients. Les principaux composants de l'AMAT Endura II sont une chambre de procédé polyvalente, un plénum intégré, une source exclusivement conçue pour le dépôt physique en phase vapeur et le dépôt chimique en phase vapeur, et un sous-système de contrôle de la pression. L'unité est également équipée d'un miroir de déviation, d'une machine de distribution de gaz, d'une source de polarisation, de réactifs de procédé et d'une chambre de métrologie de film épais. La chambre de procédé polyvalente, alimentée par une plaque chaude ou un générateur RF, est utilisée pour créer de la métallisation, soulever des trous de contact, et effectuer la passivation et la gettering. Le plénum est utilisé pour faire circuler les gaz et traiter les réactifs dans la chambre et fournir des pressions et des températures uniformes. La source exclusivement conçue est équipée de deux zones de réaction gazeuse indépendantes et est utilisée pour le dépôt en phase vapeur physique et chimique. L'outil de distribution de gaz distribue le gaz dans la chambre de procédé, et l'alimentation de polarisation fournit la puissance nécessaire à la gravure annulaire. Les réactifs de procédé utilisés dans Endura II pour créer et modifier les caractéristiques de la plaquette sont les composés de silicium, les oxydes, les nitrures, les métaux, les précurseurs et les dopants. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II a la capacité de fournir une gamme de gaz à des taux élevés pour améliorer le contrôle des procédés. La chambre de métrologie du film épais permet de mesurer l'épaisseur et le profil de toutes les caractéristiques de la plaquette pendant le processus. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un actif avancé et très polyvalent de traitement des semi-conducteurs. Avec ses composants haute performance et sa technologie de pointe, AKT Endura II peut être utilisé pour produire un large éventail de puces intégrées, y compris des puces mémoire et d'autres composants électriques complexes. Il peut être configuré en fonction des besoins individuels des utilisateurs, grâce à ses modules de processus modulaires.
Il n'y a pas encore de critiques