Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293819341 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur avancé de gravure plasma conçu pour la gravure plasma de haute qualité des plaquettes semi-conductrices. Il est capable de gravure avec une précision extraordinaire, permettant la production de motifs et de conceptions complexes sur des plaquettes semi-conductrices. Cette précision permet la réalisation de transistors complexes et efficaces. AKT Endura II utilise un procédé de gravure unique qui est conçu pour créer une uniformité sur toutes les plaquettes et prévenir la contamination. La gravure est réalisée par l'utilisation d'une série de condensateurs haute tension qui créent un arc entre chaque plaquette et une plaque adjacente. Cet arc produit un plasma qui grave efficacement les plaquettes tout en évitant la contamination de sources extérieures. AMAT Endura II est conçu pour la compatibilité à haute température avec un contrôle de température supérieur, permettant la gravure de matériaux nécessitant des températures plus élevées. En tant que tel, il peut être utilisé pour créer des circuits et d'autres composants qui nécessitent des températures extrêmes pour leur production. Le réacteur est également capable d'un chronométrage précis, afin de s'assurer que des précisions de gravure strictement synchronisées sont réalisées. Cette caractéristique est particulièrement importante pour la réalisation de transistors et d'autres composants très précis. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II est conçu avec une architecture ouverte, permettant des mises à niveau futures et la flexibilité sans nécessiter une refonte complète. Cette architecture ouverte en fait un choix plus attrayant pour les opérations actuelles et futures puisqu'elle permet des modifications sans nécessiter l'achat d'un nouveau système ou la refonte du système actuel. En résumé, Endura II est un réacteur avancé de gravure plasma conçu pour la gravure plasma de haute qualité des plaquettes semi-conductrices. Il est capable de gravure avec une précision extraordinaire, permettant la production de motifs et de conceptions complexes sur des plaquettes semi-conductrices. Il est conçu avec une architecture ouverte, permettant des mises à niveau futures et la flexibilité sans nécessiter une refonte complète. Sa compatibilité à haute température et ses caractéristiques chronologiques précises en font un choix attrayant pour les opérations actuelles et futures de transistors complexes et efficaces et d'autres composants de précision.