Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293830799 à vendre en France
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ID: 293830799
Style Vintage: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system
(4) PVD Chambers
(2) Process chambers, 12", PN: 0060-03608, 0060-03609
Degas chamber
Pre clean chamber
Carrier, 12"
Wafer, 4" - 6"
Load port
Wafer carrier, 5 x 4" Wafer pocket, 4" Tray
(2) SiC Carrier (4", 6 hole) SiC Carriers
HON HAI PRECISION, Endura 2, 4" - 6P + 2" -1P SiC Tray
EDWARDS, IH600, Dry pump (IH600 MKS), Power supply: 200 - 208 V
EDWARDS, IH600 MK5, Pump, Power supply: 200 - 208 VG, 50/60 Hz
2015 vintage.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur à haute performance et bon marché, conçu pour déposer une vaste gamme de matériaux de revêtement. Capable de déposer des films avec une homogénéité, une adhérence et une verticalité exceptionnelles, le réacteur AKT Endura II est idéal pour diverses applications, y compris les substrats avancés, l'optoélectronique, le MEMS, les écrans plats et les revêtements biocompatibles. Au cœur de la conception du système se trouve le brevet AKT en attendant la chambre à plasma Smart View. Cette caractéristique permet une surveillance aisée du processus de dépôt depuis l'arrière de la chambre à plasma. La fenêtre de la chambre étant en place, les chercheurs bénéficient d'une uniformité accrue des dépôts en permettant une surveillance de l'ensemble de la chambre en temps réel. La fonction Smart View aide également les chercheurs à comprendre les effets des paramètres de processus sur le taux de dépôt dans les applications difficiles. Le réacteur AMAT Endura II est construit avec une unité thermique à double zone chauffée résistivement qui permet d'assurer un revêtement homogène des échantillons ou des substrats. Sa machine de régulation de température à deux zones permet d'assurer une répartition uniforme de la température dans la zone de travail, tout en assurant un démarrage et un refroidissement rapides et propres. Le réacteur est équipé de détecteurs réactifs qui surveillent la distribution du gaz dans la chambre et fournissent des informations détaillées sur le procédé. De plus, grâce aux fonctionnalités RF Generator (ARG) et Linear Sweep RF Generator (LSG), le réacteur à plasma Endura II offre aux chercheurs des avantages supplémentaires par rapport aux systèmes CVD traditionnels. En plus de sa chambre à plasma Smart View, le réacteur Endura II est conçu pour un contrôle maximum du plasma. Sa fréquence fixe et ses fréquences réglables permettent aux chercheurs de réduire l'appauvrissement des particules et d'augmenter l'uniformité du plasma. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est également équipé d'un outil automatisé d'arrêt et de contrôle des gaz de haute précision qui surveille le mélange de gaz pour assurer un traitement optimal. En termes de sécurité, le réacteur AKT Endura II est équipé d'un outil d'interception sous vide, d'une chambre en acier inoxydable résistant à la corrosion et conçu avec un faible niveau d'émissions. Il est équipé d'un modèle avancé de surveillance d'urgence qui prévient tout abus et fournit un espace de travail sûr et sécurisé. En résumé, AMAT Endura II est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur à haute performance et bon marché, conçu pour déposer une vaste gamme de matériaux de revêtement. Avec sa chambre à plasma Smart View unique, son système de régulation de température à deux zones, ses détecteurs réactifs, ses générateurs RF réglables et linéaires, son unité d'arrêt et de contrôle des gaz et sa machine de surveillance d'urgence avancée, le réacteur Endura II à matériaux appliqués offre une solution remarquable pour diverses applications de revêtement.
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