Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9188225 à vendre en France
URL copiée avec succès !
ID: 9188225
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
PVD Chamber, 12"
2008 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II Reactor est un outil de fabrication de semi-conducteurs utilisé dans la production de cellules solaires, LED, optique et MEMS. Il s'agit d'un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur à basse température (LTCVD) qui utilise à la fois des technologies de chauffage résistif et de traitement thermique rapide (RTP). AKT Endura II fait partie de la suite AMAT de systèmes de traitement PECVD (Plasma Enhanced CVD) et est conçu pour la production de films minces très uniformes avec une bonne adhérence et une excellente couverture étape couche-à-couche. Le réacteur AMAT Endura II est équipé d'une chambre RTP qui peut élever rapidement la température de la plaque de substrat jusqu'à 850 ° C en quelques secondes seulement. Cette chambre utilise le rayonnement d'un réseau de lampes de haute intensité pour chauffer rapidement la plaquette. Cela permet à Endura II de créer des films de haute qualité en un temps beaucoup plus court que les systèmes PECVD traditionnels. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA II est également capable de déposer des films d'oxyde et de nitrure jusqu'à une épaisseur de seulement plusieurs nanomètres. De plus, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II utilise une source de plasma distante contenant du chlore et à basse pression pour assurer un dépôt de film uniforme sur l'ensemble de la plaquette. Cette source de plasma est séparée de la chambre de réaction principale afin que le chlore puisse être ajouté directement au film sans dépôt d'atomes directement sur le substrat. Cela permet de maintenir une excellente couverture d'étape, même sur des structures tridimensionnelles complexes. AKT Endura II est un système très polyvalent capable de déposer une variété de films diélectriques pour répondre à des exigences spécifiques pour différentes applications. Il est également capable de pré-nettoyer la plaquette de substrat, ce qui est souvent critique pour le succès du traitement des applications spécialisées. Dans l'ensemble, AMAT Endura II est un réacteur LTCVD incroyablement capable et bien équipé pour déposer des films de la plus haute qualité pour diverses applications. Ses capacités de traitement thermique rapide le rendent idéal pour les environnements de production, et sa capacité de pré-nettoyage des plaquettes le rend adapté à des applications spécialisées plus complexes.
Il n'y a pas encore de critiques