Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9200861 à vendre en France

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ID: 9200861
Style Vintage: 2012
PVD System 2012 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur spécialement conçu pour le traitement des semi-conducteurs à faible coût. Il s'agit d'un système de réacteur par lots à simple tranche conçu pour assurer un dépôt uniforme de métaux avancés, d'alliages, d'oxydes et d'autres films de matériaux sur un substrat de silicium ou autre. Il s'agit d'une plate-forme de dépôt sous vide à plaque chaude avec des paramètres de processus personnalisables pour un contrôle de processus de précision avancé. Le réacteur AKT Endura II dispose d'une conception unique avec une source de hauteur réglable positionnée injecteur de gaz et plaque chauffante de substrat qui permet un dépôt uniforme de matériaux et de gaz sur de grandes surfaces. Il utilise une technologie de pointe pour répartir davantage l'épaisseur uniforme pour un traitement cohérent et précis. La chambre à vide intégrée et ultra haute contribue à créer des environnements de dépôt purs. Son contrôleur dédié permet d'affiner les paramètres de traitement, tels que la pression, la température et le débit, ainsi que de contrôler avec précision l'épaisseur et l'uniformité des couches déposées. En fonctionnement, le réacteur utilise une alimentation par radiofréquence (RF) pour créer le plasma de matière à déposer. Le plasma est créé dans une chambre à couplage inductif puis est injecté dans la chambre principale de traitement, où il est déposé précisément sur la surface du substrat. La tête de douche, qui est reliée à la chambre du substrat, aide à délivrer les matériaux uniformément tout en empêchant toute formation de contre-pulvérisation ou de débris. Le réacteur AMAT Endura II est un outil polyvalent et fiable pour le traitement des semi-conducteurs au niveau de la production. Sa conception peu coûteuse en fait un choix économique pour étendre les opérations sans compromettre la qualité. En outre, sa conception permet une intégration facile dans les processus de fabrication existants, ce qui en fait une solution pratique pour la fabrication moderne de semi-conducteurs.
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