Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9236847 à vendre en France

AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur à double chambre à plasma à haute fréquence à couplage inductif (PIC) conçu pour la gravure et le dépôt de matériaux utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optoélectroniques. Ce réacteur est composé d'un générateur RF, d'un équipement collecteur de gaz, d'une fenêtre optique et d'une chambre à plasma. Le réacteur est conçu pour être intégré avec d'autres outils de procédé en ligne pour divers procédés de gravure et de dépôt. Le générateur RF est utilisé pour alimenter le plasma, et fournit une puissance maximale de 2000 watts. Le générateur RF comprend un système plasma à couplage inductif haute fréquence, qui est conçu pour répartir uniformément la puissance dans la chambre à plasma pour les processus de gravure et de dépôt. Le générateur comprend également une unité de commande automatique de fréquence, qui permet à l'utilisateur de régler la fréquence du générateur RF en mode continu ou sprint. AKT Endura II comprend une machine collectrice de débit de gaz composée de nombreux procédés pour fournir une large gamme de paramètres de processus. Cet outil comprend des contrôleurs de débit massique, un collecteur de mélange de gaz et une plaque d'embouchure de substrat pour la manipulation des échantillons. Il comprend également une capacité haute altitude pouvant atteindre 100 mbar de pression dans la chambre à plasma. La fenêtre optique d'AMAT Endura II est conçue pour fournir une transmission de qualité quartz pour un chauffage et une contamination légers minimaux des substrats. La fenêtre permet l'imagerie haute résolution des processus de gravure et de dépôt, et est revêtue pour résister à l'abrasion ou à la corrosion des produits chimiques agressifs utilisés dans les processus de gravure et de dépôt. La chambre à plasma Endura II est conçue pour fournir à l'utilisateur une large gamme de gammes de procédés et de températures. La chambre est conçue pour supporter les capacités de gravure sélective du plasma, y compris la gravure par faisceau d'ions, la gravure par ions réactifs profonds et les techniques de dépôt par couche atomique renforcée par plasma pulsé. Il permet également un plasma haute densité avec production d'hydrogène pour des vitesses de gravure supérieures et un fonctionnement à haut débit avec des plages de température et de pression basses. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II est un réacteur à double chambre et haute fréquence conçu pour permettre un large éventail de processus de gravure et de dépôt pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Le générateur RF et l'actif collecteur de flux de gaz assurent le traitement d'un large éventail de paramètres de processus. La fenêtre optique à quartz permet une imagerie à haute résolution du processus de gravure et de dépôt, tandis que la chambre à plasma permet une production de plasma et d'hydrogène à haute densité à basse température et pression. Le modèle AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est conçu pour offrir un fonctionnement à haut débit, des taux de gravure supérieurs et un rendement accru pour les applications de procédé.