Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9293625 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur CVD avancé (dépôt chimique en phase vapeur) à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Le réacteur AKT Endura II PECVD a été conçu pour assurer une uniformité maximale des procédés et des taux de dépôt les plus élevés, ce qui a permis d'améliorer les rendements lors de l'utilisation. Le réacteur AMAT Endura II PECVD utilise la puissance radiofréquence pour générer un plasma dans la chambre de procédé, le plasma étant activé par un gaz précurseur qui est injecté dans la chambre. Le gaz précurseur activé peut être utilisé pour déposer une grande variété de couches minces, y compris de l'oxyde, du nitrure et du silicium polycristallin. Ceci est réalisé par la dissociation thermique ou non thermique des molécules précurseurs, qui sont décomposées réactivement et déposées en couche mince à la surface du substrat. La chambre de processus d'Endura II peut être configurée pour accueillir différentes tailles de produits, matériaux et configurations de substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les réacteurs Endura II PECVD sont disponibles dans plusieurs configurations, dont la chambre par lots, le tube horizontal et le tube vertical. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II dispose également d'un système de distribution de gaz qui assure une distribution uniforme du gaz sur toute la chambre, permettant un dépôt uniforme sur les substrats. La chambre est également équipée d'une bobine RF qui assure une répartition radiofréquence uniforme à l'intérieur de la chambre. Les éléments chauffants avancés d'AKT Endura II sont conçus pour assurer un démarrage rapide et une température de traitement uniforme dans la chambre. Ceci permet de s'assurer que la réaction se déroule correctement et que les couches minces désirées sont déposées avec une grande précision. AMAT Endura II offre également plusieurs options de contrôle avancées qui peuvent améliorer la précision et la répétabilité des processus. Ces fonctionnalités comprennent le contrôle de point final, la diffusion de purge et les fonctions d'édition de réglage de programme qui permettent une optimisation précise du processus, assurant des résultats de processus reproductibles. Le réacteur Endura II PECVD est un outil fiable et facile à utiliser qui offre des performances de dépôt et une uniformité supérieures. Ce réacteur PECVD est bien adapté pour une utilisation dans une variété d'environnements de production difficiles, y compris la microélectronique, les MEM (systèmes microélectromécaniques), l'affichage à écran plat et les applications avancées d'emballage.