Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9293626 à vendre en France
URL copiée avec succès !
ID: 9293626
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
MOCVD System, 12"
2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur de gravure à semi-conducteur conçu pour fabriquer des structures nanométriques avancées utilisées dans une large gamme de dispositifs électroniques et optoélectroniques. Ce réacteur fonctionne dans des conditions de vide élevé et de basse pression (vide jusqu'à 1 × 10 − 6 Torr). Il dispose également d'une gravure photorésistante intégrée et d'un processus de dépôt à plusieurs étapes, ainsi que d'un contrôle avancé, de systèmes de sécurité avancés et de capacités de surveillance des processus. Le système utilise un procédé en trois étapes pour former des nanostructures sur une plaquette : gravure, dépôt et post-traitement. La gravure se fait généralement dans un système de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) amélioré par plasma et consiste en l'application d'un plasma d'ions réactifs et de radicaux pour éliminer sélectivement le matériau de la plaquette. La pression appliquée et la puissance des ions et des radicaux contrôlent la profondeur de la gravure ainsi que la taille et la forme des structures produites. L'appareil comprend une chambre RF supérieure et une chambre RF inférieure, dans laquelle la chambre supérieure est dédiée au dépôt de matériaux et contient une chambre source, qui sert au dépôt de matière sur la plaquette cible. La chambre basse RF contient la chambre de gravure, où les opérations de gravure et de nettoyage sont effectuées. Le mécanisme de transfert du réacteur permet un déplacement rapide et précis de la plaquette entre les chambres. Le réacteur est en outre équipé d'une zone de stockage pour l'alimentation en gaz ultra pur ainsi que d'une chambre à température contrôlée pour la mise en couches de matériaux dans des couches précises. Ce réacteur de gravure offre à l'utilisateur une variété de paramètres de procédé, y compris la température du substrat et la puissance RF. La température du substrat peut varier de la température ambiante jusqu'à 700 ° C, tandis que la puissance RF peut être contrôlée dans une gamme de 50-600 W. Dans l'ensemble, AKT Endura II est un réacteur de gravure fiable et polyvalent offrant aux utilisateurs la capacité de créer des micro et nanostructures avec une précision sans précédent. Ses systèmes de sécurité internes, associés à son fonctionnement très intuitif, en font un outil idéal pour tout environnement de fabrication de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques