Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9298482 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) spécialement conçu pour les besoins de traitement microélectronique les plus exigeants. AKT Endura II, l'un des réacteurs les plus avancés disponibles, est capable de produire des films très homogènes avec une excellente température, une épaisseur de film et un contrôle de la couverture des grandes tailles de chambres. AMAT Endura II est idéal pour des procédés très complexes et précis tels que le dépôt de couches minces de bicouches Ti/TiN, les films à grille métallique à base de nitrure et les films soufrés pour des applications avancées en CMOS et semi-conducteurs. Les caractéristiques clés d'Endura II comprennent des inserts de sources multifonctionnelles, un contrôle précis de la température du gaz et de la chambre, et des systèmes de surveillance de processus avancés pour assurer une uniformité et un rendement de processus maximaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II offre une flexibilité de processus inégalée, permettant aux utilisateurs de modifier des paramètres de processus tels que les débits de gaz, les températures du substrat et les points de masquage en fonction de l'application spécifique et la forme et la taille du substrat. Ceci assure un dépôt de film uniforme sur une variété de types de substrat, y compris l'aluminium (Al), le tungstène (W), ou l'or (Au). Le système de manutention robotique de pointe de l'équipement permet également à l'unité de transférer des quantités exactes de gaz dans la chambre de traitement et de les répartir de manière fiable pour des cycles de vie prolongés. Grâce à son design avancé et innovant, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II offre une répétabilité exceptionnelle, une stabilité de processus et un contrôle des particules. L'outil de dispersion de l'entrée de gaz de la machine assure la distribution de gaz à des niveaux de performance constamment élevés pour s'assurer que le substrat voit exactement le même profil de gaz chaque fois que le processus est en cours. AKT Endura II dispose également d'une chambre en quartz robuste avec un boîtier étanche qui offre une répétabilité supérieure et un excellent contrôle des processus. Doté d'un actif de gestion thermique avancé, AMAT Endura II permet un contrôle précis de la température des substrats et des plaquettes. Endura II intègre un modèle de chauffage en cascade verticale qui permet une trempe précise et uniforme des chambres de haut en bas. On assure ainsi une température homogène et un dépôt uniforme sur tous les sites du substrat. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'équipement multi-zone AccuHeat d'Endura II peut être utilisé pour permettre un contrôle de température encore plus précis. En combinant performances supérieures et contrôle avancé des processus, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est le choix idéal pour les applications CVD de précision les plus exigeantes dans les industries des semi-conducteurs et des MEMS.