Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9358618 à vendre en France

Le réacteur AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un outil de dépôt industriel hautement fiable utilisé dans les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur est réputé pour sa conception robuste, sa tolérance aux vibrations et sa longue durée de vie. Le réacteur AKT Endura II se compose de plusieurs composants : une chambre de base, un mécanisme de blocage des charges, un système de distribution de gaz, une source d'ions, une cible et une source de plasma. La chambre de base est construite en deux parties, un corps central et un couvercle amovible - le tout en aluminium. Le couvercle maintient tous les composants ensemble et est scellé avec quatre pinces à libération rapide, tandis que le corps central est capable de résister à la pression atmosphérique. La chambre comprend également plusieurs ports en acier inoxydable pour les conduites de pression, de puissance et de gaz. Les pompes à vide situées à l'extérieur de la chambre permettent un contrôle de pression à l'intérieur de la chambre. Le mécanisme de serrure assure une entrée non étanche et chauffée de la chambre. Le loadlock comporte deux parties : une porte d'entrée et une porte de sortie. La porte d'entrée est conçue pour éviter les contaminants, tandis que la porte de sortie empêche la haute pression de s'échapper de la chambre. Le réseau de distribution de gaz est composé de deux parties : le gazoduc et le gazoduc. La ligne de gaz est conçue pour réguler le débit de chaque gaz et mesurer la pression à l'intérieur de la chambre. Le gasmass est une série de tubes qui dirigent le gaz vers sa destination à l'intérieur de la chambre. La source d'ions est conçue pour introduire des particules chargées dans la chambre de dépôt. Ceci est réalisé par l'application d'un champ électrique, provoquant l'éjection des particules de la source et le déplacement vers la cible. La cible est la pièce qui est placée à l'intérieur de la chambre. Il s'agit le plus souvent d'un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Au cours du processus de dépôt, la cible est bombardée d'ions et de matériau déposé. La source de plasma est chargée d'alimenter les particules et de faciliter le dépôt. Cette source utilise des ondes électriques à haute fréquence pour créer un plasma qui est ensuite dirigé dans la chambre. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/AMAT Endura II est un outil puissant, fiable et facile à utiliser pour la fabrication de semi-conducteurs. Les nombreux composants du système ont été conçus avec la longévité et l'efficacité à l'esprit, offrant aux utilisateurs un processus de dépôt rentable et fiable.