Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura PVD #151575 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura PVD est un équipement de pointe de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour fournir des résultats de haute qualité dans une grande variété d'applications de dépôt. Le système AMAT Endura PVD est un outil en un seul lot qui combine une chambre, une source RF et un creuset pour assurer un dépôt rapide, répétable et stable thermiquement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité PVD d'Endura offre une suite de caractéristiques avantageuses pour le dépôt de couches hautes performances, y compris le contrôle dynamique de la machine, la modulation de la puissance du plasma, le contrôle intégré du processus et les options avant et après le processus. Endura PVD chambre est une structure en acier inoxydable avec un environnement multi-pièces de volume fermé et une plaque de suscepteur de graphite intégrée. La source RF comprend un réseau adapté à haut débit de pointe, des sources d'alimentation réglables en fréquence de pointe et une inductance couplée inductivement pour fournir une alimentation fiable, répétable et cohérente. Le creuset est conçu pour une répartition thermique uniforme et un transfert de chaleur efficace, ce qui contribue à assurer une stabilité thermique supérieure lors des processus, même à des températures plus élevées. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS L'outil Endura PVD dispose d'un contrôleur numérique entièrement programmable par l'utilisateur, d'un contrôle complet des processus et de capteurs de température intégrés. Cet atout est conçu pour définir avec précision les paramètres du procédé pour atteindre la couche de dépôt cible, un nébuliseur qui atomise le flux de vapeur et délivre des matériaux réactifs vaporisés avec une grande consistance, et une caméra thermique montée pour surveiller le chauffage et le refroidissement du substrat. Le modèle AMAT Endura PVD dispose de multiples procédés précurseurs, dont le dégazage, la purge, le nettoyage et l'échauffement. De plus, l'équipement utilise des options post-processus telles que le refroidissement, l'entretien de la stase et le gel des flux. Ces caractéristiques garantissent que les paramètres de température critique du procédé sont atteints tout au long du cycle. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système Endura PVD est conçu pour fournir avec précision et précision les caractéristiques de dépôt de couches souhaitées pour obtenir des résultats de haute performance dans un large éventail de spécialités d'application, y compris les industries des semi-conducteurs, de l'affichage et de l'entraînement de disques pour les couches avancées de plaquettes et de verre. L'unité est hautement configurable et conviviale, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de recherche et de fabrication.