Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura PVD #9213370 à vendre en France

AMAT Inc. Le réacteur Endura Physical Vapor Deposition (PVD) est un ensemble d'outils multi-chambres conçu pour permettre le dépôt précis d'une variété de matériaux en couches minces. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS L'équipement Endura PVD peut être utilisé dans un large éventail d'applications, y compris la fabrication de composants électroniques et d'interconnexions, de dispositifs optoélectroniques, de dispositifs MEMS vibrants et de cellules photovoltaïques avancées. Le système est modulaire, permettant des configurations différentes pour répondre à diverses exigences de processus. L'unité AMAT Endura PVD est construite autour d'un cluster central de configuration de machine simple ou double chambre. Chaque chambre comprend une source de PVD, telle qu'une source bipolaire de triméthylaluminium (TMA), une source de résonance cyclotron d'électrons, une source de magnétron à pont de fer ou une source de faisceau à grappes ionisées. La source est ensuite amenée séquentiellement à une température de fonctionnement, avec un outil de contrôle thermique en boucle fermée conservant une stabilité de température précise pendant la durée du processus de dépôt. La chambre est ensuite évacuée à l'aide d'un atout turbo-pompage haute performance avec une large gamme de vitesses de pompage. Les chambres sont conçues pour assurer un contrôle de flux de haute précision des matériaux sources entrants, permettant un dépôt de couches minces très uniforme. Le contrôle des processus est également disponible dans les systèmes Endura PVD de matériaux appliqués, permettant un contrôle précis de l'épaisseur du film in situ. Des actionneurs et des contrôleurs de mouvement sont également disponibles, permettant le dépôt sur une large gamme de formes et de tailles de substrat. En outre, les systèmes PVD Endura peuvent être équipés de capacités de métrologie en ligne sophistiquées, y compris la spectroscopie photoélectronique à rayons X (XPS) et la spectrométrie de masse ionique secondaire (SIMS). AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le modèle Endura PVD est également conçu pour faciliter les performances à haut débit, avec une reproductibilité élevée des recettes et des procédés de dépôt. L'échange rapide d'outils, le balayage rapide des wafers et le temps de réchauffement rapide assurent la production harmonieuse des applications critiques. L'ensemble d'outils est également conçu pour assurer des résultats haut de gamme en termes de compatibilité du substrat, d'uniformité de température maximale et d'absence d'effet de bord. Tous combinés, les équipements PVD AMAT ENDURA offrent une technologie de dépôt polyvalente et précise qui peut être configurée pour soutenir la fabrication de produits et de composants en couches minces à haute densité, à faible coût et à haute performance, permettant aux clients de rester compétitifs dans le paysage technologique en constante évolution.