Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Frame for P5000 #9221729 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Frame for P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à double chambre et à haute performance. Il est conçu pour permettre le dépôt à haut débit d'une grande variété de matériaux. Ce réacteur est adapté à diverses applications telles que les revêtements, les couches minces et le traitement des plaquettes de silicium. AMAT Frame for P5000 est construit à partir d'un cylindre en acier inoxydable sur une base en aluminium. Ce cylindre est divisé en deux chambres réactionnelles : la chambre supérieure est utilisée pour le dépôt de matériaux, tandis que la chambre inférieure est réservée aux procédés de gravure. Les chambres sont équipées de pompes turbo moléculaires à haut rendement pour un contrôle précis de la pression et du débit de gaz de procédé. La chambre supérieure a une source à fréquence variable, qui génère de l'énergie électrique pour piloter le processus. La chambre comporte également une boíte à gaz de forte puissance qui assure un contrôle précis des gaz de procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Frame for P5000 offre une variété de caractéristiques de sécurité, y compris la protection contre les surpressions, la surveillance thermique et les systèmes d'interception. Il dispose également d'un système intégré de filtre à haut rendement qui assure des conditions de fonctionnement propres. La chambre offre également une variété de fonctionnalités pour maximiser les rendements de processus, y compris un programme auto-bouteille, réglage automatique de contrôle de processus, et des programmes pour étancher l'étranglement. Frame for P5000 est conçu pour permettre le dépôt cohérent et efficace d'une variété de matériaux. Il est également capable de traiter des gaz de procédé à haute température, permettant des débits élevés tout en conservant des paramètres de procédé uniformes. Ce réacteur est idéal pour la fabrication de couches minces de matériaux semi-conducteurs tels que le silicium, l'arséniure de gallium et le nitrure d'aluminium. Il convient également pour le dépôt d'oxydes, de nitrures et de films de silicium polycristallin. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS Frame for P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) scalaire à double chambre, performant et adapté à diverses applications. Il offre une gamme de caractéristiques pour maximiser les rendements de processus, ainsi qu'une variété de caractéristiques de sécurité pour la protection et des conditions de fonctionnement propres. La chambre est capable de traiter les gaz à haute température, permettant des débits élevés tout en conservant des paramètres de processus uniformes. Ceci le rend idéal pour la fabrication de couches minces de matériaux semi-conducteurs, tels que le silicium, l'arséniure de gallium et le nitrure d'aluminium.