Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA #9311362 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA est un réacteur de gravure de silicium profond à haute température de 200 millimètres développé pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il offre une excellente sélectivité et uniformité de gravure dans les caractéristiques avec des rapports d'aspect aussi élevés que 10, et est adapté pour les applications MEMS et d'autres processus de gravure tels que Norwood et Unibond. Le réacteur AMAT G5 MESA dispose d'algorithmes avancés d'optimisation et de contrôle des procédés, offrant une uniformité de gravure supérieure sur une gamme de matériaux de substrat. Ses algorithmes intégrés de contrôle de processus et de détection de défauts ajustent la vitesse de gravure sans sacrifier le débit. Il dispose également d'un contrôle avancé de la livraison d'oxygène pour un cycle plus rapide et une sélectivité améliorée. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La réaction G5 MESA crée un environnement de gravure hautement oxygéné pour améliorer la sélectivité des fonctionnalités et améliorer encore les performances des processus. Le réacteur G5 MESA convient à la gravure de substrats à base de silice, tels que le quartz, le verre optique et le saphir, et se prête à la gravure de films minces, de plaquettes collées et de modules multi-puces. Il dispose d'un système optique de traitement d'image haute résolution, qui permet aux utilisateurs d'ajuster les paramètres de résolution pour les applications de grande surface ou de petite fonctionnalité. Il dispose également d'un système de distribution de gaz avec des composants basés sur des capteurs en temps réel, qui optimise les performances de gravure. En outre, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA offre une capacité à haute température pour améliorer la stabilité du plasma et contribue à la sélectivité et à l'uniformité du profil et de la géométrie des caractéristiques gravées. Les algorithmes avancés de contrôle de processus de gravure se combinent avec la capacité à haute température pour obtenir des performances de processus supérieures. La grande fenêtre de processus disponible dans le réservoir AMAT G5 MESA améliore encore le débit de l'appareil. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur G5 MESA est conçu pour des applications multi-utilisateurs dans la recherche, le contrôle des processus, l'analyse des défaillances et la production de dispositifs. Il est hautement configurable et compatible avec les systèmes de lithographie existants, permettant l'intégration de multiples modules de processus et systèmes. Avec une gamme avancée d'algorithmes d'optimisation et de contrôle des procédés disponibles et une liste exhaustive d'options disponibles, le réacteur G5 MESA offre un excellent rendement du dispositif et une meilleure performance du procédé.