Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS H20 VDSII #293647380 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS H20 VDSII est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance et bon marché pour le traitement des semi-conducteurs. Le réacteur est conçu pour le dépôt de couches minces à basse température et avec un minimum de contamination et de charge gazeuse. Les composants du système comprennent une alimentation électrique qui alimente les chambres de traitement, une pompe à vide, une unité d'alimentation en réactif et un système d'échappement. L'alimentation est un convertisseur DC/AC capable d'alimenter des courants jusqu'à 30amps à 500volts. La pompe à vide est une pompe turbomoléculaire qui fournit une pression de dépression de base et de source de 2,5e-7 torr et 5e-7 torr respectivement. La machine d'alimentation en réactif dispose de soupapes et de pompes de contrôle de débit de précision, et l'échappement du procédé est un outil de diffusion multi-buses qui élimine les produits de réaction et les particules du réacteur. AMAT H20 VDSII est capable de réaliser une gamme de processus CVD, y compris CVD direct et sélectif, oxydation humide et passivation de nitrures. La plage de température de dépôt s'étend de la température ambiante à 850 ° C, avec un taux de dépôt de 6-8microns/minute selon les conditions du procédé. L'actif peut accueillir jusqu'à 16gas lignes, permettant le traitement d'une large gamme de matériaux. Le réacteur est conçu pour maximiser la répétabilité du processus et minimiser les besoins de maintenance. Il dispose d'un modèle automatisé de reconditionnement des plaquettes dans lequel les plaquettes sont transférées de la station de charge vers la station de reconditionnement afin d'éliminer toute contamination par les particules des procédés précédents. L'équipement dispose également d'un certain nombre de dispositifs de sécurité tels que des capteurs de failles au sol, pour la protection du personnel et des biens. La conception supérieure de MATÉRIAUX APPLIQUÉS H20 VDSII garantit une efficacité de traitement et une uniformité maximales sur une large gamme de substrats. Son efficacité énergétique, sa charge en gaz réduite et sa large fenêtre de traitement en font un système idéal pour le dépôt de films semi-conducteurs. Cette unité rentable est adaptée à la recherche et au développement ainsi qu'aux applications de production commerciale.