Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS HTHU #185712 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS HTHU (High Temperature/High Flux Ultra High Vacuum Reactor) est un équipement de dépôt sous vide ultra-haut développé pour des applications de recherche avancées. Elle utilise des systèmes avancés de dépôt sous vide ultra-élevé qui permettent le dépôt de couches minces de matière sur des substrats à des températures supérieures à 1450 ° C Ceci rend le système idéal pour des applications telles que la croissance de composés semi-conducteurs III-V, le graphène et le nitrure de bore. L'AMAT HTHU se compose de deux composants principaux : la chambre du réacteur et la source d'évaporation. La chambre du réacteur est en acier inoxydable et est conçue pour maintenir un vide de 1E-6 torr (inférieur à la pression atmosphérique normale). A l'intérieur de la chambre du réacteur se trouve la source d'évaporation qui est utilisée pour pulvériser ou évaporer des échantillons de matière sur le substrat. Un pistolet à ions est également inclus dans la source d'évaporation, qui sert à graver, nettoyer et modifier le matériau à la surface du substrat. La source d'évaporation utilise une source de puissance RF (radiofréquence) pour l'évaporation des matériaux, qui peut être commutée entre le faisceau électronique et le CVD (dépôt chimique en phase vapeur). Ceci permet de contrôler la température, le flux et la pression du substrat pendant le dépôt, ce qui permet de contrôler l'épaisseur et la morphologie du matériau. De plus, le contrôle étendu des paramètres permet d'optimiser le processus de dépôt, d'augmenter la vitesse de diffusion, d'améliorer l'homogénéité des films et d'améliorer l'adhérence des films. Pour assurer la précision et la précision du processus de dépôt, l'unité MFC (mass flow controller) est utilisée pour régler la pression, ce qui permet un écoulement bien contrôlé des gaz de mélange à l'intérieur du réacteur. Cette combinaison de contrôle de la température et de la pression, ainsi qu'une capacité à haute température, permet d'obtenir des résultats extrêmement fiables. De plus, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS HTHU sont équipés d'un loadlock pour assurer une préparation efficace des substrats avant leur chargement dans la chambre du réacteur. Cette caractéristique permet également un cyclage rapide des substrats, augmentant le débit global de la machine. En conclusion, le réacteur à ultra-vide haute température/à haut flux HTHU est un outil de dépôt avancé pour des applications de recherche. Il dispose d'une évaporation RF avancée, gravure ionique, et des capacités de contrôle de la température, de la pression et du flux très précises, permettant un contrôle complet du processus de dépôt. Sa fonction loadlock permet un cyclage efficace des substrats, ce qui le rend très efficace et fiable.