Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS MOCVD HP+ chamber #9046115 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre MOCVD HP + est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) conçu pour permettre la croissance de matériaux semi-conducteurs de haute performance tels que l'InP, le GaAs et le GaN. La conception unique de la chambre HP + offre aux fabricants un niveau de contrôle exceptionnellement élevé sur le processus, permettant un contrôle précis de la qualité du matériau et du taux de croissance. La chambre HP + est conçue avec deux sources indépendantes de faisceau d'électrons réflecteur, un haut et le bas. Ces sources optimisent l'homogénéité du procédé de dépôt, car chacune peut être ajustée individuellement pour compenser toute variation d'homogénéité provoquée par le substrat lui-même. De plus, les réflecteurs sont amovibles pour un nettoyage et un entretien rapides. L'ensemble de la source comprend également une source de polarisation RF unique et autonome qui permet un contrôle précis de la composition et de l'épaisseur du matériau. La chambre de réaction de la chambre HP + est conçue pour une homogénéité maximale. La chambre est de forme elliptique, permettant une répartition symétrique et uniforme des espèces réactives. De plus, la chambre est enfermée dans une enveloppe à haute température, l'isolant des contaminants ambiants ce qui peut réduire l'homogénéité du dépôt. La chambre de réaction est augmentée de plusieurs caractéristiques supplémentaires qui améliorent significativement les performances de la chambre HP +. Un obturateur à fermeture mécanique ultra rapide (UFMO) est installé au sommet de la chambre, ce qui permet d'arrêter le processus en quelques minutes plutôt qu'en quelques heures. Un système de surveillance externe des dépôts assure une surveillance en temps réel du processus de dépôt, ce qui permet de prendre rapidement des mesures correctives de manière proactive et avant que le substrat ne soit affecté. Un système automatisé de régulation du débit de gaz et un système de régulation de la température sont inclus pour un contrôle précis des conditions de dépôt. La chambre HP + dispose également de plusieurs dispositifs de sécurité avancés. Une clé de verrouillage en deux étapes assure une sécurité maximale en cas d'urgence. Dans un premier temps, l'obturateur est fermé pour arrêter l'écoulement des gaz dans la chambre. Dans la deuxième étape, les conduites de gaz d'alimentation sont coupées pour assurer une coupure complète du gaz. Globalement, AMAT MOCVD HP + chambre fournit une solution puissante et fiable pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs de haute performance. Sa conception unique permet un contrôle précis du processus de dépôt, ce qui permet d'obtenir des matériaux de meilleure qualité avec des rendements améliorés. En outre, ses caractéristiques de sécurité avancées assurent la sécurité du processus et de ceux qui actionnent la machine.