Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS MST #9227637 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS MST est un réacteur conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui sert à déposer des couches de métal, d'oxyde, de nitrure et d'autres matériaux métalliques sur des substrats de silicium, de carbure de silicium, d'arséniure de gallium et de diamant, entre autres. Dans le réacteur AMAT MST, le matériau à déposer provient d'une chambre adjacente à la chambre de réaction (qui sert également à maintenir la chambre de réaction propre). Le matériau source est d'abord chauffé puis s'écoule dans la chambre de réaction où il est exposé à un plasma (un gaz fortement alimenté) généré par une source radio-fréquence (RF) à couplage inductif. Le plasma décompose les molécules de matériau source, qui se déposent ensuite sur la surface du matériau substrat dans un film mince, uniforme et conforme. Le matériau du substrat est chauffé par une source de résonance cyclotron électronique (ECR) pour faciliter le processus de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur MST offre une précision accrue du procédé et un budget thermique inférieur à celui des systèmes CVD traditionnels, offrant des performances significativement meilleures. Ses précurseurs CVD et ses paramètres de traitement peuvent être contrôlés avec précision lors de chaque étape de dépôt, ce qui permet un contrôle précis de la composition des matériaux, des tailles de caractéristiques, des épaisseurs de couches et des interfaces entre les matériaux déposés et les matériaux existants. La répétabilité et l'uniformité des couches CVD fournissent un haut degré de rendement du procédé et des performances fiables du dispositif. Le plasma offre un environnement de travail à basse pression, indépendant des propriétés des matériaux sensibles à la pression, ce qui est idéal pour certains matériaux tels que les nitrures et les oxydes. Les composants du réacteur MST sont conçus pour un fonctionnement fiable et à long terme. La chambre de réaction elle-même est réalisée en acier inoxydable 304, tandis que les parois et les boucliers sont réalisés en alliage d'aluminium et de molybdène. Les chauffages et les moteurs utilisés pour contrôler la température de la source RF et du substrat sont robustes et fiables, et la cuve hermétiquement fermée aide à empêcher le gazage d'espèces moléculaires à l'intérieur du réacteur. Le fonctionnement automatisé de la chambre de réaction permet un traitement sans équipage en milieu industriel. En résumé, les réacteurs MST AMAT/APPLIED MATERIALS sont utilisés pour le dépôt de couches conformes de couches minces sur un substrat. Son contrôle précis de la composition des matériaux, de l'épaisseur des couches, de la taille des caractéristiques et de l'uniformité permet des performances fiables du dispositif et des rendements élevés du procédé. Les systèmes AMAT MST utilisent un environnement plasma à basse pression idéal pour certains matériaux tels que les oxydes et les nitrures. Sa robustesse et son fonctionnement automatisé le rendent adapté à une utilisation à long terme et à haut volume dans des environnements industriels.