Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ Oxide chamber for Centura #293656085 à vendre en France

AMAT (MATÉRIAUX APPLIQUÉS) AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Chambre d'oxyde MxP + pour Centura est un équipement critique dans la technologie des semi-conducteurs. Ce réacteur est utilisé pour le dépôt de haute précision de divers oxydes et nitrures dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu avec un débit élevé et une fiabilité maximale pour donner des résultats cohérents dans la production. La chambre à oxyde MxP + se compose d'une enceinte en acier inoxydable, logeant le processus de dépôt. Le processus est géré avec un contrôleur PECVD afin de garantir les bonnes conditions pour un dépôt réussi. A l'intérieur du réacteur, un tube à quartz est placé pour retenir les matériaux cibles d'oxydation. Ceci est fait en combinaison avec un système de distribution de gaz pour déposer les matériaux désirés. Cela peut aller des silicates de tungstène aux oxydes dopés au phosphore. La chambre d'oxyde MxP + est conçue pour des caractéristiques de rapport d'aspect élevé et est refroidie par son propre système de refroidissement. Il a un contrôle de température en deux points et fournit également une plage de température de -60 ° C à 400 ° C Le réacteur dispose également d'une pompe à vide pour assurer un meilleur dépôt. Pour garantir en outre un dépôt cohérent, la chambre d'oxyde MxP + est équipée d'un analyseur de gaz résiduel qui vérifie la présence de gaz. La pression de fonctionnement est contrôlée par une jauge ionique et contrôlée par une pompe turbo-moléculaire. La chambre d'oxyde MxP + fonctionne à l'aide d'un logiciel prédictif qui utilise la mécanique de modélisation de processus pour donner au réacteur un meilleur contrôle pendant la production. Ce logiciel est constamment mis à jour afin de rester en avance sur les besoins du marché. AMAT MxP + Oxyde chambre pour Centura est un composant essentiel pour le dépôt réussi de matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur est conçu pour non seulement augmenter le débit, mais aussi fournir des résultats fiables. En optimisant la pression, la température et la concentration de gaz résiduel, la chambre d'oxyde MxP + est en mesure d'assurer le dépôt précis que l'industrie des semi-conducteurs exige.