Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS / NESLAB TiN Chamber for Endura #293660464 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/NESLAB TiN Chamber for Endura est un réacteur polyvalent et de pointe pour la fabrication de matériaux au niveau atomique. Cette chambre, offrant une homogénéité supérieure chambre à chambre, est capable de délivrer des films uniformes de nitrure de titane (TiN), un film dur qui est appliqué sur différents substrats, en utilisant le dépôt de couche atomique apt (ALD). Conçue pour être utilisée avec les systèmes phares AMAT Endura, la chambre TiN comprend des fonctionnalités faciles à utiliser qui réduisent le temps d'exposition et maximisent la productivité. La chambre TiN dispose de logiciels et de technologies de haute technologie qui offrent un contrôle de précision des substrats de différentes formes et tailles lors des revêtements ALD. Cette technologie supérieure comprend également des programmes qui optimisent l'uniformité et les propriétés cibles du matériau enduit. La chambre TiN conçue présente également une uniformité supérieure, la régulation de la température, et une grande qualité de film. De plus, cette chambre TiN assure une excellente planéité de la plaquette pendant le dépôt tout en assurant un excellent transfert thermique pendant le processus. La chambre TiN offre des parcours de dépôt élevés allant jusqu'à 400 nm par heure sans réduire l'homogénéité. NESLAB TiN Chamber for the Endura est la solution idéale pour les industries et les installations de recherche qui nécessitent des solutions technologiques avancées pour le revêtement de substrats avec des films de TiN. Cette chambre est idéale pour les applications microélectroniques et optoélectroniques, telles que la recherche sur les substrats d'oxyde, les semi-conducteurs d'oxyde, les dispositifs optiques, et plus encore. La chambre TiN pour l'équipement Endura est également conçue pour être utilisée avec des films minces fabriqués avec des précurseurs spécifiques aux éléments. Cela permet d'assurer des résultats uniformes et l'uniformité des performances. De plus, la chambre TiN comporte un sas intégré, permettant de traiter simultanément plusieurs plaquettes, ce qui maximise le débit. AMAT TiN Chamber for Endura offre également une multitude de fonctionnalités avancées, telles qu'un système de surveillance des gaz variable, une unité de purge des gaz pour le traitement sûr des substrats, des composants matériels qui sont construits pour durer, et une machine thermique très efficace pour la redistribution à travers la chambre. En résumé, LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre TiN pour l'Endura offre un dépôt de couche atomique (ALD) fiable et avancé qui fournit des films uniformes de nitrure de titane sur divers substrats. Cette chambre est conçue pour maximiser le débit, réduire le temps d'exposition et assurer l'uniformité avec ses fonctions intégrées de verrouillage de charge et autres.