Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Oxide chamber for MxP+ #293656757 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre à oxyde pour MxP + est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui sert à déposer des couches minces de dioxyde de silicium sur des composants semi-conducteurs. La Chambre D'oxyde a un tube de quartz contrôlé par la température qui est entouré par un filament Pt/Ti enroulé, en tenant compte du contrôle de température précis et uniforme, pendant qu'un plasma automatiquement produit se forme d'une alimentation électrique à haute fréquence de 13.56 MHz. A l'intérieur de la chambre d'oxyde, des gaz précurseurs tels que le silane (SiH4), l'hydrogène (H2) et l'oxygène (O2) sont introduits et traversent le tube de quartz chauffé. Lorsque les gaz se déplacent plus loin dans le tube, ils se vaporisent puis réagissent pour former du dioxyde de silicium. Les réactions gazeuses sont partiellement catalysées par le plasma. Le processus réactionnel brise les molécules gazeuses en radicaux qui, lors de la collision, sont rapidement transformés en dioxyde de silicium par les processus d'oxydation à haute température, de réduction et de nucléation homogène. Le processus de croissance du film dans la chambre d'oxyde est très régulé, avec des paramètres réglables pour différents cycles de processus. Il s'agit notamment de la vitesse d'injection de gaz précurseurs, de la densité d'ions plasmatiques, de la pression de la chambre et des vitesses de refroidissement. Le contrôle de ces paramètres permet des propriétés différentes dans les films d'oxyde, telles que la densité, l'uniformité, la rugosité, et d'autres caractéristiques. La chambre d'oxyde a été conçue pour produire des couches d'oxyde de haute qualité et à faible contrainte, et est utilisée dans de nombreuses industries, y compris la microélectronique, l'automobile et l'aérospatiale. Ce type de chambre s'est avéré utile pour fabriquer des composants présentant une résistance supérieure à la corrosion, une plus grande stabilité à la température et une constante diélectrique plus faible que d'autres types de procédés de dépôt. AMAT oxyde chambre pour MxP + est un outil polyvalent utilisé pour de nombreuses applications. Avec ses performances fiables, ses paramètres de processus contrôlables et sa capacité à déposer des films d'oxyde de façon cohérente, ce réacteur est un choix idéal pour de nombreux types de dépôts de films de dioxyde de silicium.