Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Chamber #9186167 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber est un réacteur haute performance conçu pour permettre un traitement rapide, précis et précis lors de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Avec ses fonctionnalités avancées, AMAT P5000 Chamber offre les niveaux les plus élevés d'uniformité de température, de répétabilité et de régulation de température pour les applications critiques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Chambre est composée de deux sections distinctes - une section de traitement et une chambre d'isolement thermique. La section de traitement se compose d'une chambre à vide qui abrite le substrat en cours de traitement, d'un mandrin de l'étage supérieur qui supporte le substrat en cours de traitement, d'un mandrin électrostatique inférieur pour le contrôle de la température du dos et d'une broche élévatrice/susceptrice configurée en quartz, qui assure un positionnement précis du substrat en cours de traitement. Est également inclus un équipement de distribution gaz-substrat qui fournit une livraison précise de tous les gaz au substrat à différentes pressions et débits selon les besoins. La chambre d'isolation thermique fournit un environnement isolé pour le substrat et permet de contrôler avec plus de précision la température des parties individuelles du substrat. La chambre d'isolement abrite un mécanisme unique, appelé « système d'obturation », qui aide à réguler et à maintenir l'uniformité de température du substrat pendant le traitement dans P5000 chambre. L'obturateur s'obture automatiquement lorsque le traitement est terminé, assurant un environnement optimal pour le traitement. Cette isolation thermique est également bénéfique lors du démarrage et de l'arrêt de la machine, car elle permet de minimiser les changements de température du substrat ou de la chambre. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber est également conçu avec une gamme d'autres fonctionnalités pour soutenir un traitement précis et précis. Il comprend un outil automatisé de transfert et de centrage des plaquettes, un analyseur de gaz résiduel in situ qui permet un contrôle précis du gaz et un actif de livraison multi-gaz. La chambre est équipée d'un modèle de gestion de l'environnement gazeux inerte très avancé, qui élimine les craintes de contamination éventuelle du substrat. AMAT P5000 Chamber est conçu pour fournir des résultats fiables et une flexibilité maximale dans un large éventail d'exigences de traitement. Son uniformité de température supérieure, sa répétabilité et ses capacités de régulation de température le rendent idéal pour diverses applications, y compris la CVD, la gravure, l'oxydation, le dépôt de métal, et plus encore. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Chambre est un outil précieux pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs, permettant des résultats de traitement précis, reproductibles et uniformes.