Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD #9161551 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD Reactor est un réacteur de densification intuitif et polyvalent conçu pour diverses applications. Le P5000 Mark II est un système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) équipé de plusieurs chambres de processus pour l'optimisation des procédés. AMAT P5000 Mark II CVD dispose d'une multitude de fonctionnalités conçues avec précision pour des dépôts efficaces et précis. Sa conception multi-chambres peut être utilisée pour optimiser les paramètres de processus pour des applications telles que les films barrières, les revêtements durs et les films diélectriques pour le contrôle de la diffusion. La conception multi-chambres permet des régimes de température différents pour chaque chambre, permettant le traitement de plusieurs applications et dépôts simultanément. De plus, le CVD DES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 MARK-II a amélioré le contrôle des procédés car toute variation de procédé peut être réglée en fonction des propriétés des matériaux qu'il souhaite déposer/fabriquer. En plus de ses performances améliorées, P5000 MARK-II CVD assure également la sécurité. Il est équipé d'un capteur de température haute résolution et d'un contrôle de distance chauffé pour maintenir les atmosphères de la chambre de processus afin de protéger la sécurité de l'opérateur tout en assurant un contrôle optimal de la température. D'autres caractéristiques de P5000 Mark II CVD comprennent également une connexion d'échappement et un système de boucle fermée pour surveiller et aider à éliminer les composés organiques pendant le processus. Cela permet de garantir que les effluents organiques ne s'échappent pas dans l'environnement ambiant. En outre, APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD dispose également d'éléments chauffants réglables pour une performance optimale et un contrôle des processus. Sa construction comprend un plateau exo-shell, qui assure une répartition uniforme de la température dans toute la chambre de processus, ce qui permet d'améliorer les performances et de prolonger la production. En résumé, le réacteur CVD AMAT P5000 MARK-II est un système intuitif et efficace conçu pour les dépôts délicats et les procédés tels que les films barrières, les revêtements durs et les films diélectriques. Il est équipé d'une multitude de caractéristiques telles que diverses chambres de processus pour le traitement multi-applications et des éléments chauffants réglables pour une performance optimale. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD assure également la sécurité grâce à l'utilisation d'un capteur de température et de systèmes en boucle fermée pour réduire les effluents organiques provenant de l'environnement. Sa construction avec plateau exo-shell garantit des résultats de processus fiables et une production efficace, ce qui en fait le choix ultime pour les applications CVD.