Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #293619352 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J est un réacteur spécialisé conçu pour un large éventail d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour optimiser les processus de gravure et de dépôt pour un contrôle précis des caractéristiques physiques et chimiques des plaquettes en cours de traitement. Ce réacteur est connu pour sa précision, sa vitesse et sa fiabilité. Le réacteur est une chambre à vide montée horizontalement, qui contient une pièce à base de silicium pouvant être réalisée par gravure ou par dépôt. Sa chambre de procédé est équipée d'un mandrin électrostatique à anneau fendu pour fixer la pièce pendant l'opération de gravure ou de dépôt. Le mandrin électrostatique est capable de maintenir une pression, une périodicité et une précision précises, même lorsque le processus doit se dérouler rapidement. Il a également une technique spéciale d'amortissement de jet pour minimiser les vibrations, assurant des résultats précis. Dans le procédé de dépôt, AMAT P5000 Mark II-J utilise des sources linéaires de barillet et des sources de plateaux pour produire une épaisseur uniforme et précise du film. Il est capable de déposer un large éventail de matériaux avancés, y compris les métaux, les oxydes et les nitrures. Grâce à sa technologie de barillet linéaire de pointe, APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J est en mesure d'atteindre un niveau d'uniformité plus élevé que les systèmes traditionnels à base de plateaux. P5000 Mark II-J est également équipé d'une technologie avancée de dépôt monobloc, nécessaire pour le dépôt de couches plus minces. Cette technique consiste en des vannes de précision, des circuits de commande et des chambres de traitement adaptées au dépôt de métaux, d'oxydes et de nitrures. Il est capable de déposer des couches minces uniformes à nucléation contrôlée, réduisant les possibilités de défauts dans le film. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J est capable d'obtenir une épaisseur précise et une uniformité dans les processus de gravure et de dépôt. Il utilise des mandrins électrostatiques avancés pour la rétention des plaquettes, des sources linéaires de barillet pour le dépôt précis et une technologie de dépôt d'une seule plaquette pour la production de films plus minces. Ce réacteur est un outil fiable et précis qui donne des résultats cohérents.