Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9051380 à vendre en France

ID: 9051380
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
CVD Systems, 8" (3) Chambers Wafer type: Notch Vacuum processing type MFC: Gas #1: SIH4 200 sccm Gas #2: N2 10 slm Gas #3: NH3 100 sccm Gas #4: NF3 1 slm Gas #5: N2O 3 slm Gas #6: CHF4 3 slm Gauges: (2) MKS 122BA Baratron, 10 torr MKS 628A Baratron, 10 torr Includes: AD TEC Generator AX-1000AM2 AMAT Matcher AC Rack Gas box (2) Chillers Heat exchanger (3) Dry pumps Mainframe PC Rack GEN Rack (2) Regulator boxes (2) FAPC Racks (9) Accessory boxes (2) Power boxes (3) RF Power supplies AMAT-0 H / E (2) Panels (3) Columns Abatement system (2) Column boxes (3) Abatement filter Transformer (3) Gas detectors Currently stored in cleanroom 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II-J est un équipement PECVD robuste et performant pour le dépôt de films diélectriques, semi-conducteurs et métalliques. Équipé d'une source d'énergie radiofréquence (RF), ce réacteur est capable de déposer des films à performances réduites pour réduire drastiquement les coûts matériels. Il est conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, et est bien adapté pour une utilisation à la fois dans les laboratoires de recherche et les fabs industriels. AMAT P5000 Mark II-J utilise un design monobloc pour offrir une uniformité de film fiable et uniforme avec une excellente répétabilité sur chaque plaquette. La conception permet une uniformité complète, permettant de meilleures performances que les autres systèmes. Ce système, doté de doubles parois froides, est capable de générer des films de haute qualité à faible contrainte avec une densité d'emballage supérieure lors du dépôt de matériaux diélectriques et semi-conducteurs sur la plaquette. Il est également capable de déposer des oxydes métalliques par dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD). MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II-J est équipé de capacités de recuit avancées pour assurer le contrôle des processus. L'unité fournit un contrôle de température uniforme avec surveillance active de la température et un contrôleur intégré pour une meilleure précision de température. Il est également configuré avec une chambre à distance intégrée pour des capacités supplémentaires de surveillance et de diagnostic. La conception offre également une efficacité exceptionnelle car elle maximise les taux de dépôt des films jusqu'à 20nm/min avec une uniformité constante entre les plaquettes. P5000 Mark II-J est conçu avec une chambre de processus robuste et un design modulaire avec un entretien facile. Cela permet un temps de réparation rapide et un temps d'arrêt minimal. La machine est également livrée avec une gamme d'accessoires, y compris un scanner automatisé, une source RF, un capteur optique ultra-sensible, et une alimentation auxiliaire en gaz. La combinaison de ses fonctions de surveillance et de diagnostic avancées, de sa conception robuste et de ses hautes performances font d'AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J un réacteur puissant et fiable pour des applications telles que les dispositifs semi-conducteurs, les films diélectriques et le dépôt d'oxydes métalliques.
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