Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9383810 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II-J est un réacteur de dépôt très efficace et polyvalent conçu pour des performances supérieures dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et d'autres applications. Ses nombreuses caractéristiques permettent un contrôle précis de diverses propriétés des matériaux tels que la structure cristalline, la rugosité de surface et le dépôt de nanoparticules. Cet équipement dispose d'une chambre de traitement à paroi chaude scellée sous vide qui peut varier en taille de petites zones d'essai à de grandes plaquettes de traitement. Il est livré avec un système de distribution de gaz entièrement réglable et précis et des modules de contrôle informatique intégrés pour le réglage précis et facile de tous les paramètres pour chaque processus. Son contrôle de l'atmosphère inerte assure un fonctionnement propre en évitant la contamination atmosphérique. La technologie de pointe utilisée dans ce réacteur permet de déposer des films de haute qualité, y compris des films argentés, des couches diélectriques et des couches de dépôt en phase vapeur de métaux organiques. Le processus de dépôt en couches minces peut se faire soit par dépôt physique thermique en phase vapeur, soit par dépôt assisté par ions. Cette dernière technique donne des résultats plus uniformes et plus précis en utilisant une source de plasma radiofréquence pour réduire le dépôt d'impuretés à la surface du substrat. Cette méthode a été utilisée avec succès dans la réalisation de transistors à couches minces, le durcissement du métal, la protection de surface et le dépôt de couches minces métalliques et isolantes. Le contrôle supérieur de cette unité permet des fonctionnalités de processus avec une précision nanométrique. De plus, l'homogénéité de la couche de film réalisée est bien adaptée aux motifs complexes sur plaquettes. Le réacteur AMAT P5000 Mark II-J offre également d'excellentes propriétés électriques et d'adhérence sur la couche de film. Il utilise un ensemble complet de contrôles pour ajuster la température, le débit, la pression et le pH du processus de dépôt, ce qui permet aux utilisateurs de contrôler complètement les résultats des dépôts. Un autre grand avantage de cette machine est sa robustesse contre la corrosion. Sa conception durable garantit un fonctionnement fiable et un faible besoin de maintenance et d'adjonction. Avec son large éventail de traits et de traitement exact, AMAT/APPLIED a APPLIQUÉ LE MATÉRIEL la Marque de P5000 le réacteur d'II-J est un choix idéal pour la fabrication d'appareil de semi-conducteur.