Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9389976 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J est un réacteur multichambre de pointe à dépôt chimique en phase vapeur métallisé (MOCVD) conçu pour produire des couches minces de matériaux semi-conducteurs de haute pureté et haute performance, tels que l'arséniure de gallium (GaAs) et le phosphure d'indium (InP). AMAT P5000 Mark II-J peut déposer des couches de matériaux sur des plaquettes jusqu'à 4,7 pouces de diamètre et offre une large gamme de gaz de procédé et de températures. Le design vertical de style CABINET DES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II-J offre une variété de configurations, y compris des accumulateurs simples et des réacteurs annulaires. Sa technologie de procédé perfectionnée, contrôlée thermiquement, fonctionne à des températures allant jusqu'à 1100C pour obtenir des films ultra-épais et peu défectueux. P5000 Mark II-J est conçu pour des rendements de production maximaux, avec un débit et une capacité accrus grâce à l'utilisation de composants avancés et un débit de gaz optimisé. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J dispose également de plusieurs fonctionnalités pour garantir des résultats de processus exacts. Un réseau de capteurs thermiques mesure la température de la chambre de dépôt et est programmé pour maintenir une température précise et homogène à travers la surface de la plaquette. Un système intégré de rétroaction des gaz en boucle fermée assure un contrôle fiable et précis du processus et contribue à garantir des résultats reproductibles. AMAT P5000 Mark II-J offre également une gamme de dispositifs de sécurité avancés, tels qu'une vanne d'arrêt à haute température et une cartouche d'échappement pour éliminer les gaz ou vapeurs générés pendant le processus de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II-J peut être utilisé en mode direct ou à distance, offrant aux utilisateurs une certaine flexibilité. Un dispositif de chauffage intégré et un ventilateur offrent une sécurité supplémentaire pendant le fonctionnement. En résumé, P5000 Mark II-J est un réacteur MOCVD très avancé et fiable conçu pour produire des couches minces de matériaux semi-conducteurs de haute pureté et haute performance. Il offre une large gamme de gaz de procédé et de températures contrôlables, ainsi que des fonctionnalités telles qu'un réseau de capteurs thermiques, un système de retour de gaz en boucle fermée, et un chauffe-air intégré et un ventilateur pour la sécurité pendant le fonctionnement.