Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP R2 #9124577 à vendre en France
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ID: 9124577
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Metal etcher, 8"
Orienter
(29) Slot elevator
(2) MxP R2 metal etch
(1) ASP
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II MxP R2 est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de prochaine génération, spécifique aux semi-conducteurs. Il offre des capacités de production avancées à grande échelle pour les substrats monolithiques et passivés. Il est conçu pour répondre aux exigences de haut débit et de faible défaut pour la production de mémoire avancée et de puce logique. L'équipement dispose d'une conception haute efficacité améliorée et de plusieurs zones réglables indépendamment qui permettent un contrôle précis de la température, de la pression, des débits de gaz, du rythme des impulsions et des réactifs chimiques. Le contrôle amélioré de la température permet des taux de dépôt plus élevés et un meilleur contrôle du procédé. Avec un nombre accru de capteurs, le système peut mesurer et ajuster rapidement les processus pour une uniformité, une répétabilité et des rendements maximaux. Le réacteur AMAT P5000 Mark II MxP R2 dispose d'une unité de chargement et de déchargement automatique améliorée. Ceci comprend une machine de reconnaissance de fonctionnalités améliorée qui permet l'alignement automatisé et la manipulation du substrat. L'outil peut accueillir jusqu'à 30 substrats dans leurs porte-mandrins électrostatiques standard. Le mandrin électrostatique est conçu pour réduire la contrainte sur la plaquette pendant le traitement. L'atout offre une gamme impressionnante de fonctionnalités en option, y compris un refroidisseur d'eau, un moteur à wobble pour réduire l'effet de bord, un modèle de dewar de substrat, une distribution de gaz de blindage chauffé, un nettoyant à décharge et un moniteur LCD couleur synchronisé. Avec les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II MXP R2, les utilisateurs de l'équipement bénéficient d'un meilleur temps d'exécution, d'un débit plus élevé, d'un coût de propriété réduit, d'une plus grande opérabilité et d'une plus grande confiance dans les processus CVD. C'est un outil très fiable et robuste conçu pour produire des substrats haute performance sans défaut. P 5000 MARK II MXP R2 est idéal pour une variété d'applications de production, telles que DRAM, mémoire flash, et puces logiques.
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