Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+ #9082547 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP + est un équipement de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute performance et multi-chambres. Il s'agit de la prochaine génération de systèmes à plasma avancés AMAT P5000, conçus pour assurer le dépôt de couches minces de la plus haute qualité, y compris les oxydes, les nitrures et le carbure de silicium (SiC), sur des plaquettes semi-conductrices jusqu'à 200 mm de diamètre. AMAT P5000 Mark II MxP + est un système multi-chambres entièrement automatisé qui utilise une technologie plasma de pointe et des capacités de contrôle de processus avancées pour fournir un dépôt de film cohérent, même sur les plaquettes semi-conductrices les plus minces. L'unité est composée d'un certain nombre de composants uniques qui travaillent ensemble en harmonie pour offrir à l'utilisateur une flexibilité et des performances maximales. Au cœur de la machine se trouve la source de plasma multi-chambres intégrée, qui est capable de produire des plasmas à une gamme de fréquences et de niveaux de puissance en fonction des besoins du substrat. Ce composant permet des taux de dépôt et une homogénéité plus élevés, rendant l'outil applicable même aux substrats les plus fins. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II MXP + est équipé d'un atout de livraison haute pression pour un contrôle de processus supérieur, assurant l'uniformité sur l'ensemble de la plaquette. Son modèle intégré en boucle fermée peut également détecter les paramètres du processus et effectuer des ajustements pour tenir compte des incohérences, telles que les variations de température, qui peuvent survenir pendant le processus de dépôt. L'équipement d'automatisation inclus offre une interface utilisateur unifiée qui simplifie la configuration des paramètres de fonctionnement et le contrôle des processus. Le système comprend des outils logiciels avancés et des recettes conviviales qui permettent aux utilisateurs de personnaliser leurs paramètres et paramètres de processus selon leurs spécifications exactes. En outre, l'unité comprend une gamme d'options complémentaires, telles qu'une machine de livraison de gaz avancée (GDS) et une alimentation en gaz pulvérisable, qui offrent une personnalisation supplémentaire et une polyvalence maximale. Ces add-ons permettent aux utilisateurs de configurer facilement l'outil pour répondre à leurs besoins spécifiques de processus, leur permettant d'optimiser leurs résultats de dépôt. P 5000 MARK II MXP + est conçu pour être très efficace, offrant des niveaux élevés de précision et de répétabilité pour tous les processus de dépôt. Cet atout est une excellente option pour les utilisateurs à la recherche d'une solution PECVD multi-chambres performante et rentable, et ses nombreuses fonctionnalités avancées en font un choix idéal pour ceux qui recherchent des résultats de la plus haute qualité possible.