Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP #9200085 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP est un réacteur MPCVD Tungstène de grande surface qui est conçu pour créer des couches minces sur une variété de grands substrats. Le réacteur est conçu pour être utilisé à la fois dans le cadre de la production et de la recherche et est capable de précurser des températures de dépôt allant jusqu'à 750C. Le diamètre du substrat peut aller de 2 pouces à 8 pouces et est maintenu en place par un équipement de hucking wafer. La chambre à vide est équipée d'un robot de transfert motorisé linéaire ainsi que d'un système à double axe élévateur qui permet le déplacement précis du substrat chauffé. L'unité est également équipée de plusieurs fonctionnalités qui permettent le contrôle et la surveillance des processus. Une de ces fonctionnalités est une machine intégrée de contrôle et de contrôle, qui fournit un retour en temps réel sur les conditions de la chambre de processus. Le moniteur de température intégré à six canaux permet d'identifier les irrégularités liées à la température et aide les utilisateurs à ajuster la température de la chambre en conséquence. De plus, l'outil utilise un outil de livraison à double tête de douche à six zones, qui aide à améliorer l'uniformité des processus en contrôlant la pression et le débit des gaz de processus entrant dans le modèle. Le réacteur AMAT P5000 Mark II MxP est équipé de diverses caractéristiques de sûreté pour répondre à des exigences de sûreté strictes. Ces caractéristiques comprennent un mécanisme d'arrêt automatique pour les situations de haute pression, un fusible thermique qui empêche le surchauffe, et un indicateur de contrôle d'expiration pour les matériaux volatils. En outre, le réacteur dispose d'un mécanisme intégré de sécurité en cas de défaillance qui isole et évacue les chambres en cas de panne de courant ou d'autre dysfonctionnement. Dans l'ensemble, LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II MXP est une plate-forme de dépôt et de réaction avancée qui convient à la fois pour la production et la recherche. Les fonctionnalités intégrées et les protocoles de sécurité aident à simplifier le fonctionnement et fournissent aux utilisateurs un moyen fiable et efficace de produire des couches minces sur une variété de grands substrats.