Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293596177 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est une plate-forme de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de qualité de production avec de multiples sources et procédés dans une seule chambre. Idéal pour exploiter la puissance des matériaux avancés, le réacteur AMAT P5000 Mark II offre un taux de dépôt élevé, une homogénéité contrôlée et une montée en charge du processus qui s'adapte à une variété de matériaux pertinents sur le plan industriel. L'équipement peut traiter un large éventail de systèmes de matériaux et est prouvé pour produire des couches lisses et uniformes, même à des échelles nanométriques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système P 5000 MARK II est conçu pour l'ingénierie des procédés et les applications avancées. Ses caractéristiques phares comprennent une grande chambre carrée de 4 po, plasma à moyenne fréquence ECR, plasma à décharge de barrière diélectrique, et un panneau de gaz de grande capacité tous logés dans une unité, permettant une uniformité et une cohérence supérieures. La machine offre également une montée en charge rapide des processus, un contrôle amélioré de la contamination et une efficacité lors de la production de films de haute qualité, y compris plusieurs couches de films conducteurs et isolants. Ce modèle offre une homogénéité supérieure, une accélération des processus et un contrôle de la contamination supérieur, permettant des étapes de dépôt complexes et une amélioration de la qualité du film. Divers procédés sont disponibles sur l'outil AMAT P 5000 MARK II, comme le dépôt chimique en phase vapeur, le dépôt de couche atomique, etc. L'actif intègre également un modèle intégré de livraison de gaz avec une gestion supérieure de la purge, un double contrôle de la source et un contrôle des séquences. L'équipement est équipé d'une interface de débit mégahertz intégrée et d'un écran quadrant numérique qui aide à assurer le contrôle des processus, aidant à l'établissement de fenêtres et de niveaux de processus. Le réacteur AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II est un outil idéal pour la recherche et le développement, offrant la précision et l'agilité requises pour la rentabilité dans la production de films avancés et complexes. Il offre un débit élevé et une uniformité inégalée sur de grandes surfaces, permettant aux utilisateurs de produire plusieurs couches de films avec un contrôle infini sur l'uniformité, l'épaisseur et les structures. Le système répond aux exigences d'une large gamme de nanofabrication et d'innovations matérielles, permettant aux chercheurs de développer de nouvelles applications pour les dispositifs de stockage à semi-conducteur, disque dur et optique.