Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293746328 à vendre en France
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor est un réacteur de haute précision et de précision conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est capable de produire des couches minces et des couches d'oxyde à forte croissance, avec un minimum d'erreurs de dépôt et des débits élevés. Le réacteur AMAT P5000 Mark II utilise un procédé de dépôt de précision multiple pour générer des couches minces et des couches d'oxyde de haute densité et de haute qualité. Ce procédé permet une gamme d'épaisseurs uniformes qui répondent aux normes de précision de l'industrie. Le réacteur délivre également des dépôts à haute température et basse pression avec des débits élevés. Cela permet de réduire le temps nécessaire à la fabrication des dispositifs, ainsi que les coûts des matériaux pour la fabrication des semi-conducteurs. La conception des équipements de pointe de APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est basée sur le système très réussi P1000 qui met l'accent sur l'utilisation de systèmes avancés de commande d'impulsions à bande étroite et de systèmes de régulation thermique hautement fiables. Ceci permet un contrôle précis de la couche et permet la création de structures cristallines complexes. De plus, les techniques de masquage à précision multiple permettent une plus grande précision lors de la réalisation de couches minces. Le réacteur AMAT P 5000 MARK II offre également un certain nombre d'autres caractéristiques, telles qu'une unité de surveillance automatique de la maintenance, des systèmes de refroidissement améliorés, une machine de contrôle avancé de l'oxygène et des halogènes et un nouvel évaporateur de type barillet à haut rendement. Le réacteur peut également être configuré pour accueillir un large éventail de types de gaz spécifiques. Le réacteur AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II est capable de produire une large gamme de films et matériaux, y compris le dioxyde de silicium (SiO2), le dioxyde de silicium dopé à l'azote (N-SiO2), le silicium polycristallin, les couches polycristallines et les films nitrures. En outre, le réacteur peut être utilisé pour la création de circuits intégrés, ainsi que pour la création de couches minces pour dispositifs solaires, réfléchissants et à mémoire. Cela permet un contrôle précis et la création de couches et de structures précises, ce qui à son tour fournit des rendements accrus et des cycles de vie plus longs pour la fabrication de semi-conducteurs. En général, le MATÉRIEL APPLIQUÉ le Réacteur de II marques de P5000 est une, solution de réacteur de haute précision avancée pour l'industrie manufacturière de semi-conducteur. Ses capacités de masquage de précision multiple, ses systèmes avancés de contrôle des impulsions en bande étroite et ses évaporateurs de type barillet à haut rendement permettent de produire des couches et des structures précises avec des débits élevés et des erreurs de dépôt minimes. Cela permet en fin de compte d'augmenter les rendements, d'allonger les cycles de vie des produits et de réduire les coûts de production et de fabrication des semi-conducteurs.
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