Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293762173 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor est un outil haut de gamme conçu pour les installations avancées de fabrication de semi-conducteurs. Principalement utilisé pour réaliser des processus de croissance épitaxiale tels que la formation d'une couche de silicium sur isolant (SOI) sur un substrat monocristallin, AMAT P5000 Mark II est un excellent outil pour réaliser des applications de recherche, de développement et de production. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II est un réacteur à ultra-haut vide (UHV) avec une pression de base de 10-11 Torr en fonctionnement. Il est capable d'atteindre une température de substrat de 5000 ° C et a une vitesse de chauffage maximale de 15 ° C/sec. Le réacteur comprend une conception de four à 3 zones en graphite, avec une longueur de zone effective de 9,5 pouces et une géométrie de 25 zones. Il dispose d'un équipement unique de levage radial hydraulique commandé par ordinateur, qui peut être commandé à partir de l'interface utilisateur de l'ordinateur. AMAT P 5000 MARK II comprend également une technologie avancée d'épitaxie multicentrique, offrant une uniformité de l'épaisseur du film sur une large gamme de substrats, y compris les structures cubiques, hexagonales et trigonales. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II offre également un certain nombre d'options de matériaux pour le dépôt et la croissance, y compris le graphène et d'autres matériaux 2D ainsi que des matériaux 3D, avec une gamme de chimies précurseurs dont Al, Si, Ge, et d'autres. En plus de la technologie multicentrique, P5000 Mark II offre un système de distribution de gaz actif, offrant un contrôle de précision des réactifs, assurant le taux de croissance et la stoechiométrie du matériau rencontré. Une unité de contrôle d'étage avancée, exploitée par une machine de rétroaction en boucle fermée, utilise la commande du moteur d'axe pour maintenir des relations constantes entre la plaquette, la tête de douche et les substrats en tout temps, assurant ainsi une épaisseur de film constante et une uniformité de dépôt. P 5000 MARK II comprend également un outil de suivi du processus pour fournir une rétroaction constante sur les paramètres de croissance, assurant le suivi et le contrôle en temps réel du processus. Enfin, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II offre un atout de rupture sous vide, permettant au gaz d'entrer dans la chambre de traitement sans risque de fluctuations de pression, libérant les opérateurs pour d'autres tâches pendant le traitement. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II offre une gamme inégalée de fonctionnalités et de capacités, assurant à la fois la stabilité du procédé et la cohérence d'un large éventail de matériaux, du graphène aux matériaux 3D, ce qui en fait un excellent choix pour les installations avancées de fabrication de semi-conducteurs.