Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9044020 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur révolutionnaire conçu pour le traitement chimique dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est construit avec un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permet la gravure sèche isotrope des surfaces de plaquettes sans avoir besoin d'une gravure chimique humide. Le Mark II bénéficie également d'un design unique à double chambre qui lui permet d'exécuter deux processus différents simultanément - un dans chaque chambre. Cela augmente l'efficacité de l'ensemble du cycle de procédé, tout en fournissant des rendements plus élevés et en réduisant les temps de cycle. AMAT P5000 Mark II est équipé de deux chambres de réaction, étanches au gaz, à la température et alimentées par des alimentations électriques indépendantes. En outre, la chambre dispose d'une atmosphère inerte haut de gamme, ce qui permet une variété de procédés chimiques, y compris l'oxygène et la gravure à base de plasma. Ces chambres réactionnelles sont construites en acier inoxydable résistant à haute température, ce qui garantit des performances supérieures même dans des conditions de traitement extrêmes. De plus, les chambres sont capables de recevoir une large gamme de tailles de susceptor. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II offre également un système de régulation de température avancé pour des réglages de température précis. Cette unité est équipée d'un contrôleur de température, d'une machine de collecte de données et d'un contrôleur logique programmable (PLC) pour le contrôle des processus. En outre, le P5000 offre plusieurs caractéristiques de sécurité, telles que des interrupteurs d'arrêt de ligne de gaz et des boutons d'arrêt d'urgence, pour assurer la sécurité des processus. En termes de technologies de dépôt, le P 5000 MARK II permet de déposer des couches minces de 750 nm à 1,5 micron. Il offre également une qualité cristalline, une uniformité et une répétabilité supérieures, ainsi qu'un environnement de dépôt à haute température qui assure un contrôle et un rendement du procédé supérieurs. En outre, il permet la compatibilité avec les procédés de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) et de dépôt par couche atomique (ALD). En résumé, P5000 Mark II est un outil avancé de traitement des semi-conducteurs qui offre des performances et un contrôle de processus supérieurs. Sa conception unique à double chambre et son atout de contrôle de température avancé le rendent idéal pour de nombreux types de processus de haute performance. En outre, sa flexibilité et ses performances en font un excellent choix pour une utilisation dans divers paramètres de production de semi-conducteurs.