Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9081647 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un ion etcher réactif (RIE) - un type de réacteur à plasma utilisé pour la microfabrication de composants électroniques, en particulier pour la création de caractéristiques nanométriques. Cet outil permet la gravure précise de matériaux en couches minces avec une très haute résolution et un excellent contrôle des paramètres plasmatiques. Les composants principaux du système comprennent une chambre à vide, une antenne de génération d'ondes radio haute fréquence, un tube réactionnel, une entrée et une sortie de gaz, et un contrôleur. AMAT P5000 Mark II utilise des plasmas radiofréquences pour générer des espèces énergétiques réactives dans la chambre à vide. Les espèces réactives produites dans le plasma réagissent avec les molécules de gaz et sont accélérées le long du tube réactionnel par un champ électrique créé par l'antenne métallique. Les espèces à haute énergie dirigées vers la pièce réagissent avec la surface et gravent les matériaux minces. L'outil est conçu pour être facilement entretenu et étalonné et dispose d'un moniteur fixé au système pour suivre les paramètres clés, y compris la pression du gaz, la température et la puissance. Avec une plage de température de fonctionnement de 5 à 80˚C et une plage de pression de 1,3 à 1000 mTorr, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II conviennent à une large gamme de matériaux et de procédés. La puissance appliquée, la chimie de réaction et les conditions de traitement peuvent être optimisées pour différents matériaux, permettant des taux de gravure très élevés, une excellente résolution et un contrôle de la topographie nano-structure. Le système a également une auto-focale programmable qui peut maintenir une pression de réaction constante jusqu'à 50 mTorr pendant la gravure. AMAT P 5000 MARK II est idéal pour la microfabrication des composants électroniques, des caractéristiques nanométriques et des films minces avec haute résolution, haute précision et un excellent contrôle des paramètres plasmatiques. L'outil est très fiable et rentable, avec une productivité améliorée et des performances répétables.