Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9097285 à vendre en France
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ID: 9097285
Taille de la plaquette: 8"
PECVD SiN system, 8"
(4) Chambers: PECVD SiN, lamp heated
Robot: Phase III
Robot blade assy: missing
TTW Config
Elevator: 15-slot
Egormica loader: optional
Phase 4 matches on each chamber
VME: 21-slot
Heat exchanger: AMAT-0.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un type d'outil de dépôt utilisé dans la fabrication de puces à circuit intégré (IC). Cet outil est essentiel dans la création de matériaux semi-conducteurs modernes. Il est utilisé pour appliquer des couches minces de matériau sur un substrat, permettant une structuration complexe nécessaire pour créer de minuscules transistors et interconnexions. Cela en fait un élément clé du processus de fabrication des puces IC. AMAT P5000 Mark II est basé sur la plate-forme d'outils P5000 et fournit une capacité de processus avancée pour les applications exigeantes. Il a une largeur d'empreinte globale de 64 pouces, avec une base de 76 pouces de large. La base peut supporter jusqu'à quatre cellules de travail, ce qui permet d'entreprendre plusieurs processus simultanément. Chacune des cellules est équipée d'une doublure en quartz de 50 centimètres par 30 centimètres, capable de résister à des températures allant jusqu'à 1000 ° C et à des pressions allant jusqu'à 5 Torr. Les cellules sont réglables, et peuvent être attachées à diverses sources telles que l'évaporation, la pulvérisation ou le dopage ionique. Le système est également équipé d'une large gamme de capteurs, tels que la détection de pression et de température, ainsi que d'une zone de visualisation intégrée. Cela permet à l'utilisateur de suivre de près les paramètres du processus pour s'assurer que les meilleurs résultats possibles sont atteints. En outre, APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II utilise une architecture de communication ouverte, ce qui lui permet d'être intégrée à une large gamme de systèmes d'automatisation. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II a également des configurations alternatives disponibles, comme la version P5000EO, qui est le laser au dioxyde de carbone activé pour le traitement de l'ablation laser. De plus, la version P5000TI a la capacité d'utiliser des creusets appariés pour la régulation de la température, ainsi qu'une doublure en aluminium de qualité avion pour améliorer l'uniformité de la température. Toutes ces caractéristiques font de P5000 Mark II un outil polyvalent et fiable pour la fabrication avancée d'IC.
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