Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9097804 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de production de semi-conducteurs utilisé dans la fabrication de composants microélectroniques avancés. Cet équipement permet le dépôt de films d'oxyde ultra-minces sur des plaquettes semi-conductrices par un procédé de dépôt au niveau atomique. Cette technologie peut être utilisée dans la production en masse de composants semi-conducteurs tels que transistors, catalyseurs et composants d'affichage. AMAT P5000 Mark II est un système de dépôt sous vide à haut débit. Il dispose d'une chambre de serrure avec une capacité de plaquette de 6 pouces et peut traiter jusqu'à 100 plaquettes par heure. L'unité utilise la technologie d'évaporation par faisceau d'électrons pour assurer l'uniformité du dépôt d'oxyde sur la surface de toutes les plaquettes. Ce procédé de haute précision a l'avantage de produire des films avec une faible rugosité et une excellente uniformité d'épaisseur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II utilise un ion source d'ions Argon pour pulvériser le film sur des plaquettes. Ce procédé de pulvérisation, combiné à l'évaporation du faisceau d'électrons, assure un dépôt uniforme des films dans une large gamme de températures, de la température ambiante jusqu'à 1000 ° C Cette capacité à haute température permet un dépôt rapide et efficace de nitrures, d'oxydes, de silicures et de films composés. Le procédé permet également d'obtenir des films d'une grande pureté et de faibles défauts, ce qui conduit à un rendement plus élevé en pièces semi-conductrices utilisables. La conception de P 5000 MARK II garantit également que les films humides et secs sont prêts pour la prochaine étape de traitement, ce qui contribue à améliorer la durée globale du cycle de production. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est équipé d'un moniteur et d'un contrôleur à quartz de précision. Cela permet d'assurer la qualité du processus de dépôt en contrôlant l'énergie du faisceau d'ions, la puissance du faisceau, l'angle d'incidence et d'autres paramètres du processus. La machine est également équipée d'une interface utilisateur graphique avancée (interface graphique) pour faciliter le fonctionnement et le contrôle. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II est un outil très efficace et polyvalent pour la production de semi-conducteurs et d'autres composants avancés en microélectronique. Ce réacteur offre une excellente uniformité de dépôt sur toutes les plaquettes et permet un traitement rapide et uniforme d'une large gamme de matériaux. P5000 L'outil de contrôle avancé de Mark II et l'interface graphique conviviale offrent aux utilisateurs une solution de traitement fiable et efficace, optimisant le rendement et la qualité de tous les dispositifs semi-conducteurs.