Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9114965 à vendre en France

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ID: 9114965
Taille de la plaquette: 8"
CVD Nitride dielectric etcher, 8" 3-Chamber (2) 5000 CVD chamber with CVD delta teos gas box, Gold precision 5000 lamp (1) 5000/5200 CVD chamber with 5000 CVD lamp ENI OEM-12B3 RF Generator ENI OEM-12B RF Generator (3) RFPP LF-5 RF Generator (3) Astech ATL-100RA Matching network Heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de pointe conçu pour le dépôt épitaxié, la diffusion et le traitement des parois latérales des circuits intégrés. Il est idéal pour la fabrication en grand volume de circuits intégrés complexes d'aujourd'hui. Il peut fonctionner avec une variété de types de sources, y compris des sources de lignes de faisceaux moléculaires, avec une large gamme de gaz et d'autres matériaux d'entrée ; permettant un contrôle précis de la structure et de la composition de la couche épi résultante. La chambre d'AMAT P5000 Mark II est conçue pour permettre un contrôle précis de la température ; avec une plage variable de 100 à 1000 ° C, la chambre permet aux utilisateurs de contrôler avec précision le profil thermique du procédé. Il dispose également d'une turbomachine de grande capacité pour assurer un excellent contrôle du gaz et des pressions de base plus faibles. Ceci permet un contrôle précis des débits massiques obtenus en fonctionnement, ainsi qu'une productivité plus élevée pour tous les procédés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II utilise une capacité de contrôle informatique avancée via une interface VME standard. Ce contrôleur informatique sophistiqué permet une reproduction aisée des conditions de processus et une manipulation précise des timings et séquences utilisés. Le système est également équipé de pyromètres numériques et de dispositifs de rétroaction thermocouple, permettant un contrôle précis de la température des taux d'évaporation des matériaux sources. P 5000 MARK II possède une large gamme de caractéristiques de sécurité, y compris une chambre en acier inoxydable résistant à la corrosion, un faible taux de fuite de gaz pour protéger contre l'incendie et l'explosion, et une cloche renforcée PECVD (dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma) pour améliorer le confinement des particules. De plus, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II comprennent un ioniseur pour minimiser la contamination par les particules, un système de vide hermétique pour un contrôle optimal du processus, et des soupapes de surpression automatiques pour une protection supplémentaire du personnel et de l'équipement. P5000 Mark II est l'outil idéal pour la production en grand volume de structures de circuits intégrés avancées et spécialisées. Avec son large éventail de caractéristiques et sa haute performance, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est un excellent choix pour ceux qui demandent les meilleurs résultats possibles en matière de fabrication de circuits intégrés.
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