Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9170888 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de gravure à plasma à haut débit automatisé à haute performance conçu pour des applications critiques de gravure. Ce réacteur de pointe est capable de graver un large éventail de matériaux, y compris des semi-conducteurs, des métaux et des optiques, avec une précision et une répétabilité élevées. AMAT P5000 Mark II est particulièrement bien adapté à la fabrication de semi-conducteurs, fournissant un contrôle précis et une uniformité des vitesses de gravure sur l'ensemble du substrat. Le réacteur comprend un contrôleur numérique sophistiqué à microprocesseur et un contrôleur logique programmable, ce qui lui permet de contrôler automatiquement les processus de gravure. Il dispose également d'un équipement intégré de surveillance in situ, qui suit en permanence l'avancement du processus de gravure, permettant des ajustements à la volée. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II dispose également d'une grande chambre de traitement, qui offre amplement de place pour le traitement par lots de substrats plus grands. Le système du réacteur est conçu pour des applications de gravure de haute précision et dispose de plusieurs caractéristiques qui optimisent ses performances. Les caractéristiques de polarisation des bords et de mise à niveau de puissance permettent de contrôler la gravure des bords du substrat afin d'assurer l'uniformité de la vitesse de gravure. AMAT P 5000 MARK II dispose également d'un mécanisme de rotation de substrat, qui augmente le débit en permettant la gravure simultanée de plusieurs substrats. Parmi les autres caractéristiques, on peut citer une unité de détection automatique d'endpoint, une machine de contrôle avancée avec surveillance détaillée des processus, un microscope numérique haute résolution et un outil de sécurité intégré. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est un réacteur de gravure puissant et polyvalent, capable de produire des motifs de gravure plus fins et plus précis que la gravure plasma classique. C'est une excellente option pour ceux qui recherchent un réacteur de gravure fiable et de haute qualité capable de traiter une gamme d'applications avec précision, flexibilité et répétabilité.