Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9175069 à vendre en France

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ID: 9175069
CVD System (1) Standard CVD chamber (1) Universal CVD chamber Can be used for nitride or TEOS CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un outil de dépôt avancé utilisé pour la croissance de couches minces hautes performances. Le réacteur est équipé d'une unité de puissance à courant continu pulsé de précision, d'un générateur de fréquence avancé et d'un régulateur de température, offrant un contrôle de processus supérieur mesuré en nanosecondes. AMAT P5000 Mark II dispose également d'un contrôle thermique multi-zones, qui permet des températures différentes dans différentes parties du réacteur. Ceci assure une vitesse de dépôt uniforme et des paramètres cristallographiques uniformes, même lorsque l'on travaille sur des matériaux aux propriétés différentes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II possède une interface de processus contrôlée par ordinateur, permettant aux utilisateurs de programmer ou d'exécuter automatiquement les processus de dépôt corrects. Il s'agit des dernières technologies économes en énergie, telles que la gestion dynamique des flux de gaz, qui peuvent être personnalisées pour optimiser chacun des processus de dépôt. Cela le rend hautement personnalisable, permettant aux utilisateurs de développer des films sur mesure pour toute application spécifique. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II dispose d'un système à vide ultra-élevé qui comprend un getter de titane et une source de bombardement électronique à cathode de titane. Cela garantit un environnement sous vide ultra-élevé avec une contamination minimale, ce qui donne une qualité de film supérieure. Le système dispose de 5 ", 6" et 8 "susceptors avec un verrouillage de charge en option. Il comporte également une vanne d'entrée de gaz, qui sert à introduire les précurseurs dans la chambre, et un régulateur de débit massique, qui permet un contrôle précis du débit de gaz. AMAT P 5000 MARK II est également équipé d'une interface d'ordinateur personnel RS232-based, ce qui le rend incroyablement convivial. Le réacteur peut également être contrôlé et contrôlé à distance, permettant aux utilisateurs d'accéder à l'instrument depuis n'importe où avec une connexion Internet. Ces caractéristiques le rendent idéal pour les laboratoires de recherche et les environnements de fabrication. En résumé, P5000 Mark II est un puissant outil de dépôt capable de produire des films haute performance avec un contrôle de processus supérieur, des technologies de pointe économes en énergie, un système à vide ultra-élevé et une interface conviviale qui rend l'instrument accessible depuis n'importe quel endroit. C'est un outil important pour ceux qui travaillent dans les laboratoires de recherche et les environnements de fabrication.
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