Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9193242 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur à plasma haute densité qui est utilisé dans la production de dispositifs à circuit intégré (IC). Le réacteur est composé de plusieurs compartiments, dont la source de plasma, la chambre de procédé, l'équipement de distribution de gaz et le système de vide. La source de plasma utilise l'énergie hyperfréquence, typiquement 2,45 GHz, pour créer un plasma énergétique dans la chambre de procédé. Ce plasma est utilisé comme milieu de production de composants IC. La chambre de procédé, qui est enfermée sous vide, fonctionne typiquement à des pressions comprises entre 10 et 12 mTorr. A l'intérieur de la chambre de procédé se trouve le porte-substrat où sont placés les échantillons CI. Juste au-dessus du détenteur substrate est l'unité de livraison du gaz qui est le cœur d'AMAT P5000 II marques. Il contient une gamme d'ajutages en laiton raccordés aux lignes d'arrivée du gaz pour contrôler la livraison des gaz différents exigés pour le processus de production IC. La machine de distribution de gaz est conçue pour que le débit de gaz soit uniforme sur le plan du substrat. L'outil sous vide est utilisé pour maintenir la pression de la chambre de procédé requise. L'actif sous vide comprend une pompe turbo-moléculaire, ainsi que des pompes de première ligne et de diffusion. La pompe turbo-moléculaire assure que les processus maintiendront une pression constante, tandis que les autres pompes assurent l'évacuation des gaz résultant du bombardement ionique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II a une gamme de paramètres de contrôle pour permettre un contrôle précis du processus. Les paramètres qui peuvent être ajustés par l'utilisateur comprennent la pression totale de traitement, le débit et la composition des gaz de procédé, la température du substrat, les niveaux de puissance du bombardement ionique, ainsi que d'autres paramètres. Ensemble, ces paramètres permettent un contrôle précis de l'environnement du processus pour reproduire des résultats spécifiques et s'ajuster aux variations du processus. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est un réacteur polyvalent très avancé utilisé pour la production de dispositifs CI. Il utilise plusieurs compartiments et systèmes en conjonction avec divers paramètres de contrôle pour un contrôle précis du processus. Cela permet la production uniforme de dispositifs IC de haute qualité.