Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9213665 à vendre en France

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ID: 9213665
CVD system (2) CVD chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) extrêmement avancé et fiable conçu pour offrir des performances et une flexibilité de pointe dans l'industrie. Ce réacteur CVD de pointe est équipé d'une chambre source de pointe et d'une chambre de procédé de haute précision, ce qui en fait un choix idéal pour le développement et les applications de matériaux avancés. La chambre source d'AMAT P5000 Mark II est spécialement conçue pour assurer une formation de particules cohérente et de haute qualité, en veillant à ce que les particules produites aient une taille et une forme uniformes. La chambre de source utilise un cycle de chauffage à quatre zones qui est conçu pour produire des rendements opérationnels et un rendement amélioré. En outre, la chambre de source dispose de deux points d'entrée de gaz qui permettent une flexibilité dans l'introduction de gaz réactifs pour la précision et le contrôle lors de la création de matériaux. La chambre de procédé haute précision est une caractéristique clé de APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II. Cette chambre spéciale fournit un environnement optimal pour le dépôt des couches et donne aux utilisateurs un contrôle et une précision sans précédent. Cela permet une gamme de caractéristiques telles que le dépôt de matériaux très précis, le contrôle des couches et la gestion avancée des films. Les contrôles avancés et la programmation de l'AMAT P 5000 MARK II permettent un contrôle complet du processus et fournissent des commentaires sur les conditions et les paramètres du processus. Le logiciel sophistiqué et l'interface utilisateur intuitive permettent aux utilisateurs de personnaliser les paramètres, de surveiller les processus et de fournir une analyse des résultats. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser le processus de dépôt et de fournir des résultats cohérents. Parmi les autres caractéristiques utiles de P5000 Mark II figure sa capacité à réduire les coûts de propriété et à accroître la cohérence. Les matériaux de la chambre sont spécifiquement construits pour réduire le temps de cyclisme et les coûts énergétiques tandis que la conception de la chambre permet un entretien facile d'accès. Les contrôles et la programmation intégrés permettent également un contrôle automatisé des processus, de sorte que les utilisateurs peuvent gérer des processus plus complexes avec facilité. En tout, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est un réacteur CVD très avancé et fiable avec une chambre source leader sur le marché et une impressionnante chambre de procédé de haute précision. Ces caractéristiques en font un choix idéal pour la création de matériaux et d'applications avancés. Son logiciel sophistiqué et son interface utilisateur intuitive permettent la personnalisation, le suivi et l'analyse des résultats, garantissant des performances cohérentes et une efficacité maximale des processus.
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