Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9213668 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma optimisé pour des applications de dépôt nécessitant des films de haute qualité. AMAT P5000 Mark II est équipé de deux chambres et offre deux options de procédé : IDPECVD (Ionized Deposition Process) et MPPECVD (Multi Plauna Power Enhanced Chemical Vapor Deposition). IDPECVD est un procédé de dépôt qui est initié par le bombardement énergétique d'un gaz précurseur à l'intérieur de la chambre de dépôt par un faisceau d'électrons à des densités de puissance relativement élevées. MPPECVD est un procédé de dépôt non énergétique qui est utilisé pour produire des films à plus faibles densités de puissance avec une plus grande uniformité. Les deux procédés sont essentiels à la production de films de qualité supérieure, d'adhérence et d'uniformité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 MARK II est conçu avec un mécanisme de chargement supérieur qui permet d'accéder facilement à la chambre de dépôt pour le chargement et le déchargement des plaquettes. Les supports de substrat de chargement supérieur permettent à l'utilisateur de charger des plaquettes de 600 mm à des débits élevés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Le réacteur Mark II intègre également des manipulateurs de pas performants pour une métrologie in situ de haute qualité et des systèmes de distribution de gaz pour un contrôle précis de la réaction à la volée. Pour améliorer les performances du réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II, le système intègre également un certain nombre de fonctions de mesure et de contrôle avancées. Il s'agit notamment d'une unité RF à quatre bornes capable de gouverner et d'apparier les fréquences de façon indépendante, de contrôler la puissance en vol et de contrôler l'épaisseur du film par mesure infrarouge. De plus, la machine est capable de mesurer l'épaisseur du film, les caractéristiques optiques et électriques avec une précision de sous microns. Pour assurer la sécurité et le contrôle des processus, le réacteur AMAT P 5000 MARK II comprend plusieurs caractéristiques de sécurité, comme un outil de protection contre les surtensions, un actif de protection contre les surtensions et un contrôleur de pression automatisé. Le régulateur de pression automatisé contrôle précisément la pression de réaction à l'intérieur de la chambre pour garantir des performances sûres et précises dans chaque processus. P5000 Réacteur Mark II est un modèle de dépôt avancé conçu pour produire des films de haute qualité avec une homogénéité, une adhérence et des caractéristiques optiques, électriques et thermiques supérieures pour une variété d'applications industrielles. Ce réacteur spécifique au processus est équipé de caractéristiques de sécurité clés et de systèmes avancés de métrologie, de mesure et de contrôle pour des performances fiables et reproductibles.