Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9213673 à vendre en France

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ID: 9213673
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de dépôt in situ multi-chambre, multi-zone. Il est spécialement conçu pour le dépôt à haut débit d'une variété de matériaux en couches minces sous ultra-haut vide. AMAT P5000 Mark II dispose d'une technologie de micro-zone de pointe qui offre une excellente homogénéité et une uniformité de température dans toute la zone de dépôt. Ceci garantit des résultats précis et reproductibles de dépôt en couches minces. L'équipement présente une homogénéité et une vitesse de dépôt extraordinaires. Le système comprend deux chambres à vide indépendantes, qui permettent aux utilisateurs d'optimiser les conditions de dépôt à la fois pour le dépôt en couches minces et la gravure en couches minces sur plusieurs substrats simultanément. La commande avancée du mouvement à grande vitesse équipée de MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II optimise la position du substrat, la direction de croissance cristalline et le dépôt de particules. En outre, des options de chauffage avancées telles que le chauffage infrarouge, l'évaporation thermique ultra-faible émission et le recuit thermique rapide sont disponibles pour différents procédés de couches minces. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est conçu pour des performances supérieures avec un environnement sous vide robuste. L'unité dispose d'un processus de re-cristallisation automatisé avec des composants enduits d'oxyde d'étain d'indium, une source d'ions à faible coût à vue directe et les premiers systèmes de détection de point d'extrémité au monde avec des mesures réflectométriques avancées. Cela permet à la machine d'ajuster automatiquement les conditions de processus en fonction des réactions de divers systèmes de surveillance in situ. AMAT P 5000 MARK II est également très apprécié pour son microscope électronique à balayage in situ automatisé, qui permet le dépôt rapide et la caractérisation de tout processus causé par l'outil. P5000 Mark II offre un contrôle de processus supérieur avec souplesse et évolutivité. La suite logicielle avancée et les capacités d'intégration intégrées permettent aux utilisateurs de transférer des recettes de différents réacteurs ou d'utiliser des recettes d'un procédé à un autre en cas de changement d'environnement ou de substrat. L'actif est conçu avec un haut niveau de flexibilité de processus et différentes combinaisons de matériaux pour un large éventail de processus de dépôt. En conclusion, le P 5000 MARK II est un réacteur multi-chambres, multi-zones, spécialement conçu pour le dépôt de couches minces sous ultra-vide de divers matériaux. Le modèle permet un contrôle de processus supérieur avec flexibilité, évolutivité, évolutivité et une excellente homogénéité grâce à sa technologie de micro-zone avancée. L'équipement comprend également une gamme de fonctionnalités avancées, telles qu'un processus automatisé de re-cristallisation, des composants d'oxyde d'étain d'indium, une source d'ions à faible coût à vue directe et une détection de point d'extrémité, pour s'assurer que chaque processus est livré avec précision et fiabilité.
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