Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9298983 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de procédé de gravure avancé qui fournit une précision et un contrôle du plasma améliorés, permettant d'améliorer le rendement et les performances des dispositifs tout en réduisant le coût de propriété. Ce réacteur de procédé de gravure est adapté au traitement à base d'argon et de fluor. Il est capable de graver une grande variété de matériaux, tels que le silicium, le silicium polycristallin, etc. AMAT P5000 Mark II est un outil basé sur la recette, capable de production, avec quatre centres d'exploitation d'E/S et une chambre de gravure unique. Il dispose également d'un magnétron multi-canaux, basse tension Monoblock™ qui assure des niveaux de puissance contrôlés pour les ions d'espèces de gaz réactifs et la neutralisation du gaz. Le magnétron Monoblock améliore le contrôle et la précision des profils plasmatiques afin de maximiser l'uniformité du processus des plaquettes du bord au centre. Il est également équipé d'un système d'impédance RF qui assure une adaptation rapide aux fluctuations des gaz réactifs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II est conçu pour maximiser la productivité avec la stabilité du processus, le débit et la productivité, ainsi que pour permettre un contrôle optimal de la profondeur de gravure et du profil. La performance du processus est encore améliorée en incluant un module avancé d'accord des sources pour permettre l'appariement des sources RF et l'optimisation des processus. Le système de distribution de gaz inclus permet une large gamme de gaz réactifs et offre des débits de gaz équilibrés, de faibles fuites de gaz réactifs et de minimiser les dépôts de contamination sur la plaquette. De plus, la chambre de procédé est dotée d'un système avancé de surveillance du dépôt de film qui permet de cartographier in situ le dépôt sur la plaquette. En surveillant la couche de dépôt, un opérateur peut rapidement détecter tout léger décalage dans les paramètres du processus de gravure, ce qui permet un ajustement et une correction immédiats. En général, l'Applique le Matériel P5000 II marques gravent le réacteur de processus à l'eau forte est un extrêmement capable gravent à l'eau forte l'outil qui fournit le contrôle de plasma amélioré, l'uniformité et l'optimisation de processus pour maximiser des productions d'appareil et une performance. Avec ses systèmes de contrôle avancés et sa source RF multi-canaux, il offre aux utilisateurs un moyen efficace et fiable de traiter un large éventail de matériaux.