Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9298986 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un équipement de traitement de substrat de haute précision conçu pour fournir aux utilisateurs des performances supérieures pour la production intégrée à IC (circuit intégré). Cet outil utilise des procédés en plusieurs étapes pour perfectionner des plaquettes de silicium, y compris l'implantation d'ions, le dépôt de couches épitaxiales et la gravure de dispositifs. Le système est conçu pour traiter jusqu'à 106 plaquettes par heure, de sorte que sa taille de substrat est de 8 pouces ou 200 mm. AMAT P5000 Mark II utilise des champs électriques à plasma inductif (ICP) pour produire les ions nécessaires au dopage des zones sélectionnées sur le substrat. Cette méthode est très répétable et précise, ce qui permet à l'outil de produire des IC supérieurs de manière rentable. En outre, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II peuvent contrôler divers paramètres dont la pression, la température et la concentration, qui augmentent le contrôle et la précision de l'outil dans la réalisation des zones dopées souhaitées sur le substrat. L'unité est équipée à la fois d'une chambre primaire avancée, utilisée dans le dépôt épitaxial, et d'une deuxième chambre avancée, utilisée dans la gravure. Cela permet aux utilisateurs de profiter des deux étapes de leur processus de production. La chambre primaire utilise une machine à gaz pour assurer la précision et la stabilité du dopage. Cet outil de livraison de gaz est constamment surveillé et géré afin de maintenir un processus de dopage constant et cohérent. Afin de maximiser les performances et de réduire les déchets, APPLIED MATERIALS P5000 Mark II utilise une interface exclusive 3D Auto-Asset. Cette interface fournit à l'opérateur une représentation graphique du processus, montrant les paramètres clés et les paramètres en temps réel. Cela permet un processus beaucoup plus facile pour définir les temps de traitement, les températures et d'autres variables. En résumé, le MATÉRIEL APPLIQUÉ P5000 Mark II™ est un outil avancé de traitement de substrat conçu pour fournir des performances supérieures pour la production intégrée à IC. Son processus avancé de dopage sur le champ électrique de l'ICP permet une précision et une répétabilité accrues et contribue à maintenir le rapport coût-efficacité. L'outil est également équipé d'une chambre primaire et secondaire avancée et d'une interface 3D Auto-Model propriétaire qui fournit à l'opérateur une représentation graphique du processus. Cela permet aux opérateurs de définir facilement des variables et de maximiser les performances tout en réduisant les déchets, ce qui en fait un outil supérieur pour produire des IC complexes.