Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9300021 à vendre en France
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ID: 9300021
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
CVD Etcher, 8"
Mainframe
Mainframe cables
Chamber A / B / C:
Type: DCVD Universal
Process: SA / Delta / TEOS
Process kit: Plasma C-chuck
Manometer: Dual 20-1000 Torr/MKS
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
ASTEX AX8200 Ozone generator
Gas box MFC: UNIT MFC
Lamp driver
RF Gen I / II: RFDS 2000-2V/RFPP LF-5
RF Match: Phase IV
Chamber D:
Process: Sputter etcher
Process kit
Manometer: Single Torr/MKS
Clean method: RF Clean
Throttle valve
Turbo pump
Magnet driver
Gas box MFC: UNIT MFC
RF Gen I / II: ENI OEM 12B
RF Match: Phase IV
21-Controller slots
SBC Board type: V21 SYNERGY
Boss ROM version: E4.8
Video board type: VGA
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Robot type: Phase III
Auto-load / Unload cassette handler
Silicon-Tin-Oxide (STO) elevator type: 15-Slots
WPS Sensor
I/O Wafer sensor
Loadlock Purge
Loadlock Slow vent
Slit valve type: ZA Slit valve
Hot box version: Version IV
Top / Standard exhaust line
(28) Gas line panels
HAMART-4 Ozone monitor
Mini controller
Chiller
Safety module: (2) EMO Switches
Remote frame
EMO Switch
Expanded VME: (15) Slots
No Monitor rack
CRT Monitor
Light pen
Service monitor rack
Miscellaneous:
No Hard Disk Drive (HDD)
Transformer
Laminar flow hood
No mainframe cover
Load lock chamber:
Robot type: Phase III robot
Robot blade: 8"
Continuous purge
Center finder board
TC Gauge
ATM Switch
Vacuum switch
Vacuum sensor (TC)
System electronics:
(2) TC Gauge boards
+12 VDC Power supply
+15 VDC Power supply
-15 VDC Power supply
Buffer I/O board
AI MUX Board
Optical sensor boards
Chopper driver boards
Pneumatic control PCB
Main DC power supply
VME Controller:
Intelligent interface board
Missing SBC board
SEI Board
Co-processor board
(4) AI/AO / AI/O Boards: (1 AI and 1 AO)
Missing video board (VGA)
(4) Stepper boards
(4) DI/DO / DI/O Boards (7)
System misc:
Remote wiring dist board
System wiring dist board
No I/O Distribution board
Mini controller
Heat exchanger
Process / A / B / D
Mark II TEOS / CVD TEOS / CVD TEOS
RF Generator 1 / RFDS 2000-2V / RFDS 2000-2V / RFDS 2000-2V
O3 Generator / AX-8200 / AX-8200 / AX-8200
LF Generator / RFPP LF-5 / RFPP LF-5 / RFPP LF-5
TC Gauge
Isolation V/V / Cluster type
Interlock:
Coolant flow
Half ATM switch
Lamp module
CVD Lamp driver
Lift assy:
Susceptor lift assy
Wafer lift assy
Gas panel:
Gas panel interface
Expanded gas panel PCB
Standard or expanded module
Air maker
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un puissant équipement de gravure et de dépôt de plasma à grande échelle. Ce système est largement utilisé dans la fabrication de circuits intégrés, tels que des puces mémoire et logique, ainsi que des panneaux d'affichage, des capteurs et d'autres dispositifs microélectroniques. Il utilise une source de plasma à haute densité inductivement couplée à des radiofréquences pour créer un gaz ionisé qui réagit avec un substrat pour créer le résultat de procédé souhaité. Le moteur du réacteur AMAT P5000 Mark II se compose d'une chambre à vide, d'un générateur hyperfréquence, de structures de support et d'un générateur RF de grande puissance. Le générateur RF de forte puissance génère un champ électrique pouvant atteindre 200 000 volts à une fréquence de 13,56 MHz. Ce champ de forte puissance ionise le gaz de procédé, fournissant un plasma capable d'achever le processus de gravure et de dépôt. Le générateur contrôle également la vitesse et la température de dépôt, permettant ainsi un contrôle précis du résultat final. Le gaz réactif du réacteur P 5000 MARK II de MATÉRIAUX APPLIQUÉS est constitué d'une combinaison de composés chimiques comprenant du chlore et des gaz azotés. Ceux-ci réagissent avec le substrat pour créer une variété de processus tels que la gravure, le dépôt et la passivation. Le réacteur est également capable de réaliser des procédés de CMP (CMP) et de polissage chimique et mécanique de l'oxygène. Le réacteur P 5000 MARK II possède de nombreuses caractéristiques de sûreté et d'automatisation pour assurer un haut niveau de sûreté. Par exemple, le réacteur est logé dans une chambre remplie de gaz inerte pour protéger à la fois l'équipement et l'opérateur d'un environnement potentiellement dangereux. En outre, l'unité comprend un moniteur de température et une machine d'alarme qui ferme l'outil si la température dépasse certains niveaux. En conclusion, P5000 réacteur Mark II est un puissant actif avancé de gravure et de dépôt de plasma qui permet un contrôle précis de la vitesse et de la température de dépôt. Il est conçu pour une production et une sécurité à haut volume et est largement utilisé dans la fabrication de CI et d'autres appareils électroniques.
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