Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313061 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un outil polyvalent et économique pour la nanofabrication, la nanocharactérisation et le dépôt de matériaux avancés. Ce réacteur technologiquement avancé est conçu avec deux étages chauffés de haute précision contrôlés indépendamment, une chambre de pression remplie de gaz inerte et un suscepteur de graphite. Sa chambre de pression de 90 mm maximum permet le traitement de divers matériaux avancés en créant un traitement à haute température jusqu'à 1200 ° C. Le système à double source permet le revêtement de matériaux avancés simultanément, chacun ayant la capacité d'accepter jusqu'à quatre sources. Le suscepteur réutilisable est construit en graphite, qui offre une excellente conductivité thermique et a un point de fusion élevé. Le suscepteur est utilisé pour contrôler séparément la température de chaque plaque chauffée lors d'expériences de nanocharactérisation telles que la caractérisation de surface et l'analyse d'échantillons. Le suscepteur est également utilisé pour évaporer des matériaux tels que des films métalliques et semi-conducteurs lorsque le dépôt est nécessaire. La température de chaque substrat peut varier indépendamment. Un tube de quartz est fourni le réacteur de II marques d'AMAT P5000 pour fournir un environnement inerte. Le tube à quartz est rempli d'un gaz inerte pour protéger les matériaux avancés de l'oxydation ou d'autres dégradations causées par la réaction avec l'air ambiant. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 MARK II est un outil de nanofabrication polyvalent et économique. Son système à double source permet de traiter plusieurs matériaux simultanément, et ses étages chauffés contrôlés de manière indépendante permettent un contrôle précis de la température. Le suscepteur de graphite assure le transfert efficace de chaleur vers les substrats, et l'environnement gazeux inerte contribue à protéger les matériaux avancés de l'oxydation ou de la dégradation. Le réacteur AMAT P 5000 MARK II est capable de créer un traitement à haute température jusqu'à 1200 ° C, ce qui le rend idéal pour des expériences avancées de dépôt de matériaux et de nanocharactérisation.